[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，使用洗净液进行被处理基板的洗净处理，其特征在于，具有：

形成有以仰面朝上的姿势搬送被处理基板的搬送路径，由所述搬送路径沿规定方向搬送所述被处理基板的搬送单元；和

向在所述搬送路径上搬送的所述被处理基板的上面供给洗净液的洗净喷嘴，其中，

所述搬送路径具有以水平状态搬送所述被处理基板的水平部、和从所述水平部形成规定角度的向上倾斜的倾斜部，

所述洗净喷嘴配置在所述倾斜部的上方，洗净液的喷出方向为相对于水平方向向下方倾斜规定角度的方向、并且为所述搬送路径的上游方向，

向在所述倾斜部上搬送的所述基板的倾斜面喷出洗净液。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于：

所述搬送路径通过敷设多个搬送滚子而形成，

所述倾斜部通过使并列设置的所述多个搬送滚子的高度位置沿搬送方向分阶段地增高而形成。

3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于：

所述搬送路径具有从该搬送路径的上游侧向下游侧依次连续形成的第一倾斜部和第二倾斜部，

在所述第一倾斜部和第二倾斜部的上方分别设置有向搬送的所述基板的倾斜面喷出洗净液的第一洗净喷嘴和第二洗净喷嘴，

所述第二倾斜部的顶点相对于所述水平部的高度尺寸形成为比所述第一倾斜部的顶点的高度尺寸高。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于：

进行控制，使得所述第二洗净喷嘴喷出的洗净液的喷出量比所述第一洗净喷嘴喷出的洗净液的喷出量多。