[发明专利]流体输送装置

权利要求书

1.一种流体输送装置，用以传送一流体，其包含：

一阀体座，其具有一出口通道及一入口通道；

一阀体盖体，其设置于该阀体座上；

一阀体薄膜，其设置于该阀体座及该阀体盖体之间，且包含一第一阀开关及一第二阀开关，该第一阀开关及第二阀开关各于两侧连接一延伸部支撑一阀片；

多个暂存室，于该阀体薄膜与该阀体盖体之间形成一第一暂存室，以及于该阀体薄膜与该阀体座之间形成一第二暂存室，其中该第一暂存室及该第二暂存室是分别具有由外缘向中心方向延伸的一导流面结构；以及

一振动装置，其周边固设于该阀体盖体，且与该阀体盖体间形成周围具有一导流面结构的一压力腔室，其中该阀体座及该阀体盖体上具有一微凸结构，该微凸结构直接与该阀体薄膜的阀片顶触形成一预力作用。

2.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该流体包括气体及液体。

3.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该多个暂存室的该导流面结构是一斜面。

4.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该多个暂存室的该导流面结构是一曲面。

5.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该多个暂存室的该导流面结构是一斜面结合曲面型态。

6.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该压力腔室的该导流面结构是一斜面。

7.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该压力腔室的该导流面结构是一曲面。

8.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该出口通道的管径是大于该入口通道的管径。

9.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该阀座体及该阀体盖体上设有多个凹槽结构，且该微凸结构为多个密封环，其分别设置于该阀体座与该阀体盖体的多个凹槽内，其中部份密封环突出于该凹槽顶触该阀体薄膜的阀片上形成一预力作用。

10.根据权利要求1所述的流体输送装置，其特征在于该微凸结构以半导体制程形成于该阀座体及该阀体盖体上。

11.根据权利要求10所述的流体输送装置，其特征在于该半导体制程为黄光蚀刻、镀膜或电铸。