[发明专利]液晶显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示装置，包括：

第一衬底；

第一导电层，其设置在所述第一衬底上，并且所述第一导电层包括第一次数据线和栅极线；

栅极绝缘层，用于覆盖所述第一导电层；

第二导电层，其设置在所述栅极绝缘层上，并且所述第二导电层包括源极和不透明的共用电极，其中将所述共用电极设置为对应于所述第一次数据线；

保护层，其覆盖在所述第二导电层上；以及

设置在所述保护层上的像素电极和连接导线，

其中所述源极的宽度大于所述栅极线的宽度。

2.如权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述像素电极部分地与所述共用电极重叠。

3.如权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述像素电极部分地与所述第一次数据线重叠。

4.如权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述共用电极的宽度大于所述第一次数据线的宽度。

5.如权利要求4所述的液晶显示装置，其中所述共用电极具有开口，用于部分地曝露出所述第一次数据线。

6.如权利要求1所述的液晶显示装置，进一步包括第二衬底，将所述第二衬底设置为对应于所述第一衬底。

7.如权利要求6所述的液晶显示装置，进一步包括遮光层，其设置在所述第二衬底相对于所述第一衬底的一侧。

8.如权利要求7所述的液晶显示装置，其中将所述遮光层设置为对应于所述第一次数据线。

9.如权利要求7所述的液晶显示装置，其中将所述遮光层设置为对应于所述像素电极的边缘。

10.如权利要求9所述的液晶显示装置，其中所述像素电极的边缘与所述第一次数据线相邻。

11.如权利要求6所述的液晶显示装置，进一步包括液晶层，其设置在所述第一衬底与所述第二衬底之间。

12.如权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述第一导电层进一步包括第二次数据线。

13.如权利要求12所述的液晶显示装置，其中所述第一次数据线通过所述连接导线电连接到所述第二次数据线。

14.如权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述第一次数据线通过所述连接导线电连接到所述源极。

15.如权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述源极部分地与所述第一次数据线和所述栅极线重叠。

16.如权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述共用电极与所述连接导线电绝缘。

17.如权利要求1所述的液晶显示装置，其中所述第二导电层进一步包括漏极，所述漏极电连接到所述像素电极。

18.一种液晶显示装置，包括：

第一衬底；

第一导电层，其设置在所述第一衬底上，并且所述第一导电层包括第一次数据线，第二次数据线和栅极线；

栅极绝缘层，用于覆盖在所述第一导电层；

第二导电层，其设置在所述栅极绝缘层上，并且所述第二导电层包括源极、漏极和不透明的共用电极；

其中所述共用电极覆盖在所述第一次数据线上，并且所述共用电极的宽度为所述第一次数据线宽度的0.8倍到3.5倍；

保护层，用于覆盖所述第二导电层；

第三导电层，其设置在所述保护层上，并且所述第三导电层包括像素电极和连接导线；

其中所述像素电极部分地与所述共用电极重叠，其中所述连接导线与所述第一次数据线、所述第二次数据线以及所述源极电连接，其中所述像素电极电连接到所述漏极，

其中所述源极的宽度大于所述栅极线的宽度。

19.一种液晶显示装置的制作方法，包括：

提供第一衬底；

进行第一光刻蚀刻工艺，在所述第一衬底上形成第一次数据线、第二次数据线和栅极线；

形成栅极绝缘层，用于覆盖所述衬底；

进行第二光刻蚀刻工艺，在所述栅极绝缘层上形成半导体层；

进行第三光刻蚀刻工艺，在所述栅极绝缘层上形成源极、漏极和不透明的共用电极；

形成保护层，以覆盖所述第一衬底；

进行第四光刻蚀刻工艺，在所述保护层上形成第一穿孔和第二穿孔；以及

进行第五光刻蚀刻工艺，在所述保护层上形成像素电极和连接导线。