[发明专利]光源装置

说明书

技术领域

本发明涉及出射光的光源装置。

背景技术

例如，在制造半导体器件时的光刻工序中，为了对晶片上的光刻胶进行曝光，使用对从水银氙灯等的光源放射的紫外线通过反射镜进行反射并射出的光源装置。然而，这种光源装置有一个问题，即光刻胶曝光时产生的升华物等异物，和从外部导入到光源装置内用于风冷的空气一同进入到光源装置内，与紫外线发生反应等并附着在反射镜的反射面等上。

作为用于解决这种问题的现有的光源装置，已知的是如下的光源装置，即通过化学过滤器以及冷却设备使空气在光源装置中循环(例如，参照日本国特开平9-106076号公报)。跟据该光源装置能够防止异物附着在反射镜的反射面等上，并且能够充分冷却光源。

发明内容

然而，在上述的现有光源装置中，如果光源被过度冷却、光源是水银氙灯等，那么水银的气化将被妨碍而光输出将变小，灯寿命有可能缩短。

因此，本发明是鉴于该问题而提出的，其目的在于提供一种能够防止光源的过度冷却、防止异物附着在反射镜的反射面上的光源装置。

为了达到上述目的，本发明涉及的光源装置，其特征在于，包括：放射光的光源；反射镜，将从光源放射出的光以反射面反射并从出射开口部出射；气体喷吹结构，具有从反射镜出射的光所通过的通过开口部，并向反射面喷吹气体。

该光源装置中，从光源放射出的光被反射镜的反射面反射，经由反射镜的出射开口部以及气体喷吹结构的通过开口部而向外部出射。这时，气体被气体喷吹结构喷吹到反射镜的反射面上。由此，即使从外部导入空气以用于光源装置内的风冷，异物与该空气一同进入到光源装置内，也能够防止异物附着在反射镜的反射面上。所以，根据该光源装置，不会使光源过度冷却，能够防止异物附着在反射镜的反射面上。

优选本发明涉及的光源装置具有箱体，该箱体容纳光源、反射镜以及气体喷吹结构，并使从外部导入的空气流通。由此，能够在防止光源的过度冷却的同时，能够适当地对光源装置的内部进行风冷。

本发明涉及的光源装置中，优选气体喷吹结构包括：供给口，接受来自外部的气体供给；喷射孔，以包围通过开口部的方式配置多个，并喷射气体以向反射面喷吹气体；分配路，向喷射孔分配从供给口导入的气体。通过如此构成气体喷吹结构，能够均匀地向反射镜的反射面喷吹从外部供给的气体。

这种情况下，优选喷射孔被大致等间隔地配置。由此，能够更加均匀地向反射镜的反射面喷吹从外部供给的气体。而且，优选分配路以包围通过开口部的方式形成为环状。由此，能够容易地且顺畅地向各喷射孔分配从外部供给的气体。

在分配路形成为环状的情况下，优选供给口以夹着通过开口部并相对的方式至少设置1组。由此，能够使被分配在各喷射孔的气体的流量均匀化。而且，优选喷射孔被配置为从供给口导入的气体的导入方向线上偏离。由此，与在导入方向线上至少配置1个喷射孔的情况相比，能够使从各喷射孔喷射出的气体的流量均匀化。

本发明涉及的光源装置中，优选气体喷吹结构包括：分配路部件，形成有成为分配路的沟；以及喷射孔部件，安装在分配路部件上以覆盖沟，并形成有成为喷射孔的切口。通过如此地构成气体喷吹结构，能够以简单的结构在气体喷吹结构上设置从外部供给气体的分配路以及喷射孔。

这种情况下，优选气体喷吹结构具有对安装在喷射孔部件上的反射镜进行定位的定位部件。由此，能够在气体喷吹结构上安装反射镜，从而均匀地向反射面喷吹从各喷射孔喷射的气体。

本发明涉及的光源装置中，优选，反射镜是反射面形成在内面且在一端形成有出射开口部的筒状体，出射开口部向着反射面的更外侧扩展。通过如此地构成反射镜，能够从扩展的出射开口部的边缘部向反射镜的反射面喷吹气体。由此能够扩大气体喷吹结构的通过开口部，效率良好地向外部出射从光源放射出的光。而且，优选，反射镜是反射面形成在内面且在一端形成有出射开口部的筒状体，光源在插通反射镜的另一端的开口部的状态下配置在反射镜内，在开口部的边缘和光源之间形成有用于使被气体喷吹结构喷吹到反射面上的气体通过的间隙。如此，能够沿着反射镜的反射面顺利地向整个反射面喷吹从气体喷吹结构喷射的气体。

本发明涉及的光源装置中，优选被气体喷吹结构喷吹到反射面上的气体是惰性气体。例如，在从光源放射出的光是紫外线的情况下，如果被喷吹到反射面上的气体是空气，那么空气中的氧气有可能因紫外线而发生自由基化，从而在反射面有可能发生白浊，但是如果向反射面喷吹的气体是惰性气体，则能够防止这种反射面的白浊。

附图说明