[发明专利]曝光装置以及图像形成装置无效

专利信息
申请号: 200710162920.3 申请日: 2007-09-27
公开(公告)号: CN101177071A 公开(公告)日: 2008-05-14
发明(设计)人: 宫泽孝雄 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/447 分类号: B41J2/447;G03G15/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 以及 图像 形成
【权利要求书】:

1.一种曝光装置,具备:

第一光源列,其包括沿第一方向排列的多个光源;

第二光源列,其包括位于在所述第一方向交叉的第二方向上和所述第一光源列的各光源隔开的位置并沿所述第一方向排列的多个光源;和

聚光体,其将来自所述第一光源列以及所述第二光源列的各光源的出射光向被曝光面聚光;

通过来自所述第一光源列的光源的出射光、和来自相对该光源位于所述第二方向的所述第二光源列的光源的出射光,对所述被曝光面进行多次曝光;

所述第一光源列中的第一光源的中心与所述第二光源列中的第二光源的中心沿所述第一方向的距离,大于所述第一光源列中的第三光源的中心与所述第二光源列中的第四光源的中心沿所述第一方向的距离,其中所述第二光源相对于所述第一光源来说位于所述第二方向上,所述第三光源比所述第一光源更远离所述聚光体的光轴,所述第四光源相对于所述第三光源来说位于所述第二方向上。

2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,

所述第一光源列中的距所述聚光体的光轴的距离最大的光源、和相对该光源位于所述第二方向上的所述第二光源列的光源,沿所述第一方向位于相同位置。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于,

所述第三光源以及所述第四光源比所述第一光源以及所述第二光源的尺寸更大。

4.根据权利要求3所述的曝光装置,其特征在于,

所述第一光源列形成在距所述聚光体的光轴规定距离的位置,

所述第二光源列隔着所述光轴形成在所述第一光源列的相反一侧且距该光轴所述规定距离的位置。

5.根据权利要求1~4的任一项所述的曝光装置,其特征在于,

所述各光源包括具有发光层的发光元件,所述发光层位于绝缘层上形成的开口部的内侧,

所述各光源的位置以及形态根据所述绝缘层中的与该光源对应的开口部的位置以及形态来确定。

6.根据权利要求1~4的任一项所述的曝光装置,其特征在于,

所述各光源包括:发光元件;和遮光层,其形成有使来自朝向所述被曝光面的所述发光元件的出射光通过的开口部;

所述各光源的位置以及形态根据所述遮光层中的与该光源对应的开口部的位置以及形态来确定。

7.根据权利要求1~6的任一项所述的曝光装置,其特征在于,

该曝光装置具备:

多个元件组,分别包括所述第一光源列和所述第二光源列;和

多个所述聚光体,分别与单个的元件组对应。

8.根据权利要求1~7的任一项所述的曝光装置,其特征在于,

选定各光源的位置以及形态,以便在通过来自所述第一光源的出射光与来自所述第二光源的出射光的多次曝光而在所述被曝光面上形成的光点区域、和通过来自所述第三光源的出射光与来自所述第四光源的出射光的多次曝光而在所述被曝光面上形成的光点区域中,尺寸以及能量相等。

9.一种图像形成装置,具备:

权利要求1~8中任一项所述的曝光装置;

像载体,通过所述曝光装置的曝光而形成潜像的所述被曝光面相对所述曝光装置沿所述第二方向前进;和

显影器,其通过添加针对所述像载体的潜像的显影剂来形成显像。

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