[发明专利]曝光装置以及图像形成装置

说明书

技术领域

本发明涉及具备多个光源的曝光装置以及利用了该曝光装置的图像形成装置。

背景技术

以往，提出了将排列有多个发光元件的曝光装置用在感光体鼓等像载体的曝光中的电子照相方式图像形成装置。在专利文献1和专利文献2中，提出了按照与以规定数量为单位将多个发光元件划分后的各集合(以下称为“元件组”)对置的方式配置了微透镜的构成。来自属于一个元件组的规定数量的发光元件的出射光，通过与该元件组对应的微透镜而在像载体的表面上成像。

然而，属于一个元件组的各发光元件与微透镜的光轴的位置关系(例如距离)按各发光元件而不同。因此，在来自各发光元件的出射光到达像载体的表面的区域(以下称为“光点区域”)的尺寸和对光点区域赋予的能量的强度中，会因微透镜的像差等各种原因而产生按每个发光元件不同的偏差。因此，在图像形成装置所形成的图像中，存在产生分辨率或灰度不均的问题。

专利文献1：特开2000-158705号公报

专利文献2：特开2001-205845号公报

发明内容

本发明鉴于上述情形而实现，目的在于解决抑制光点区域的尺寸和能量强度的偏差的课题。

为了解决以上课题，本发明的一个方式所涉及的曝光装置具备：第一光源列，其包括沿第一方向(例如图7的X方向)排列的多个光源；第二光源列，其包括位于在与第一方向交叉的第二方向(例如图7的Y方向)上和第一光源列的各光源隔开的位置并沿第一方向排列的多个光源；和聚光体(例如图4的透镜44)，其将来自第一光源列以及第二光源列的各光源的出射光向被曝光面聚光；通过来自第一光源列的光源的出射光、和来自相对该光源位于第二方向的第二光源列的光源的出射光，对被曝光面进行多次曝光；第一光源列中的第一光源(例如图7的发光元件E1)的中心、与第二光源列中的相对第一光源位于第二方向上的第二光源(例如图7的发光元件E2)的中心沿第一方向的距离(例如图7的距离S1)，大于第一光源列中的比第一光源更远离聚光体的光轴的第三光源(例如图7的发光元件E3)的中心、与第二光源列中的相对第三光源位于第二方向上的第四光源(例如图7的发光元件E4)的中心沿第一方向的距离(例如图7的距离S2)。根据其他观点，按照第一光源列中的距聚光体的光轴越远的光源、与第二光源列中的相对该光源在第二方向上邻接的光源的中心间沿第一方向的距离越大的方式，选定第一光源列以及第二光源列各自中的各光源的位置。此外，作为光源，优选采用例如有机发光二极管元件等发光元件。

在以上的构成中，第一光源与第二光源的中心间的距离，大于比第一光源或第二光源更远离聚光体光轴的第三光源与第四光源的中心间的距离。因此，即使当存在越远离聚光体光轴的光源其光点区域的尺寸越扩大的趋势(例如，聚光体的像差)的情况下，与在第二方向上邻接的各光源沿第一方向位于相同位置的构成相比，也能抑制由第一光源与第二光源的多次曝光形成的光点区域、和第三光源与第四光源的多次曝光形成的光点区域的尺寸的差异。

进而，在优先方式中，第一光源列中的距聚光体的光轴的距离最大的光源(例如图7的发光元件E7)、和相对该光源位于第二方向上的第二光源列的光源(例如图7的发光元件E8)，沿第一方向位于相同位置。根据本方式，来自第一光源列中的距光轴最远的光源的出射光和来自与其在第二方向上邻接的第二光源列的光源的出射光在被曝光面上充分叠加。因此，与这些光源在第一方向上的位置不同的构成相比，通过双方光源的多次曝光能高效地向光点区域赋予能量。

在本发明的优选方式中，第三光源以及第四光源比第一光源以及第二光源的尺寸更大。例如，距聚光体光轴越远的光源其尺寸越大。根据以上方式，即使当存在越远离聚光体光轴的光源所形成的光点区域的能量强度越降低的趋势的情况下，与各光源为相同尺寸的构成相比，也能抑制由第一光源与第二光源的多次曝光对光点区域赋予的能量强度、和由第三光源与第四光源的多次曝光对光点区域赋予的能量强度的差异。

进而，在优选方式中，第一光源列形成在距聚光体的光轴规定距离的位置，第二光源列隔着光轴形成在第一光源列的相反一侧且距该光轴规定距离的位置。根据以上方式，由于第一光源列的光源和相对该光源在第二方向上邻接的光源的每一个距聚光体光轴的距离相等，因此，通过使双方光源为相同尺寸，从而可起到对各光点区域赋予的能量强度均匀化的所期望的效果。