[发明专利]多元酚化合物和含有该化合物的化学放大型光刻胶组合物无效
申请号: | 200710167318.9 | 申请日: | 2007-10-22 |
公开(公告)号: | CN101168509A | 公开(公告)日: | 2008-04-30 |
发明(设计)人: | 武元一树;安藤信雄;重松淳二 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C07C69/74 | 分类号: | C07C69/74;H01L21/027;G03F7/004 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 顾晋伟;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多元 化合物 含有 化学 大型 光刻 组合 | ||
技术领域
本发明涉及多元酚化合物和含有该化合物的化学放大型光刻胶组合物。
背景技术
化学放大型光刻胶组合物用于半导体微加工。
在半导体微加工中,希望形成具有高分辨率、高灵敏度和良好线边缘粗糙度的图案,并且期望化学放大型光刻胶组合物给出这样的图案。
JP2006-58739A公开了一种含有多元酚化合物的化学放大型光刻胶组合物,其中至少一个连接到苯基的羟基受到1-乙氧基乙基的保护。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种新型多元酚化合物,其能够提供给出具有良好分辨率和良好线边缘粗糙度的图案的化学放大型光刻胶组合物。
本发明的另一个目的是提供一种含有该化合物的化学放大型光刻胶组合物。
本发明的这些和其它目的将由于以下描述而显而易见。
本发明涉及下列内容:
<1>一种由式(I)表示的多元酚化合物:
其中,选自R1、R2、R3、R4和R5中的至少一个是由式(II)表示的基团:
其中,X1、X2、X3和X4分别独立地表示氢原子或C1~C4烷基,n表示0~3的整数,Z1表示C1~C6烷基或C3~C12环烷基,环Y表示脂环烃基,
并且,其它的是氢原子;
<2>根据<1>的多元酚化合物,其中X1和X2表示氢原子并且n表示0;
<3>根据<1>的多元酚化合物,其中由式(I)表示的多元酚化合物的分子量为730~5000;
<4>一种化学放大型光刻胶组合物,其包含由式(I)表示的多元酚化合物:
和产酸剂,
其中,选自R1、R2、R3、R4和R5中的至少一个是由式(II)表示的基团:
其中,X1、X2、X3和X4分别独立地表示氢原子或C1~C4烷基,n表示0~3的整数,Z1表示C1~C6烷基或C3~C12环烷基,环Y表示脂环烃基,
并且,其它的是氢原子;
<5>根据<4>的化学放大型光刻胶组合物,其中所述组合物含有至少两种由式(I)表示的多元酚化合物;
<6>根据<4>或<5>的化学放大型光刻胶组合物,其中所述组合物还含有选自由式(III)表示的化合物和由式(V)表示的化合物中的至少一种化合物:
其中,P1、P2和P3分别独立地表示氢原子、C1~C4烷基、C2~C4烯基、C3~C8环烷基、C6~C12芳基或C7~C12芳烷基;
<7>根据<4>或<5>的化学放大型光刻胶组合物,其中所述组合物还含有树脂,所述树脂含有具有酸敏基团的结构单元且树脂本身不溶或难溶于碱的水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱的水溶液;
<8>根据<4>或<5>的化学放大型光刻胶组合物,其中所述组合物还含有树脂和选自由式(III)表示的化合物和由式(V)表示的化合物中的至少一种化合物,所述树脂含有具有酸敏基团的结构单元且树脂本身不溶或难溶于碱的水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱的水溶液:
其中,P1、P2和P3分别独立地表示氢原子、C1~C4烷基、C2~C4烯基、C3~C8环烷基、C6~C12芳基或C7~C12芳烷基;
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