[发明专利]电子乐器的键盘装置有效
申请号: | 200710167847.9 | 申请日: | 2007-10-26 |
公开(公告)号: | CN101169933A | 公开(公告)日: | 2008-04-30 |
发明(设计)人: | 大须贺一郎;荒木胜弘 | 申请(专利权)人: | 雅马哈株式会社 |
主分类号: | G10H1/34 | 分类号: | G10H1/34 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑小军 |
地址: | 日本静冈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子乐器 键盘 装置 | ||
1.一种电子乐器的键盘装置,包括:
多个枢转构件,每个所述枢转构件均响应键的按压或释放而进行枢转;
框架,其支承所述枢转构件,以使得所述枢转构件能够枢转;以及
限动构件,其与所述枢转构件产生碰撞,以限制允许所述枢转构件枢转的范围;其中:
在该限动构件的、由一封闭构件部分地或全部地包围的封闭区域内容纳多个颗粒,且在允许空气在该封闭区域和外部空气之间流入和流出的情况下,沿着所述枢转构件的设置方向在框架侧设置该限动构件。
2.如权利要求1所述的电子乐器的键盘装置,其中,该封闭构件是透气的。
3.如权利要求1所述的电子乐器的键盘装置,其中:
该封闭构件固定至一透气的基部,由此该封闭构件和所述透气的基部形成该封闭区域。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的电子乐器的键盘装置,其中:
位于该限动构件上且与所述枢转构件相碰撞的点处于该限动构件固定至该框架侧的位置的下方。
5.如权利要求1至3中任意一项所述的电子乐器的键盘装置,还包括:
弹性限动构件,其用于施加比该限动构件所施加的排斥力更大的排斥力;其中:
该限动构件和该弹性限动构件位于该框架上或位于处于该框架侧的一固定构件上,由此当所述枢转构件枢转时,所述枢转构件在与该限动构件碰撞之前与该弹性限动构件相碰撞。
6.如权利要求1至3中任意一项所述的电子乐器的键盘装置,其中:
所述枢转构件是所述键和与所述键的按压同步地进行枢转的质量体中的至少一种。
7.一种电子乐器的键盘装置,包括:
多个枢转构件,每个所述枢转构件均响应键的按压或释放而进行枢转;
框架,其支承所述枢转构件,以使得所述枢转构件能够枢转;以及
限动构件,其与所述枢转构件产生碰撞,以限制允许所述枢转构件枢转的范围;其中:
在该限动构件的、由一封闭构件部分地或全部地包围的封闭区域内容纳多个颗粒,且沿着所述枢转构件的设置方向在框架侧设置该限动构件;以及
由该封闭构件包围的该封闭区域设置有用于限制所述颗粒运动的限制运动构件。
8.如权利要求7所述的电子乐器的键盘装置,其中:
该限制运动构件设置成使限制运动部位于作为多个点之间的中点的多个位置的至少一部分位置处,所述多个点是位于所述封闭构件上且与所述枢转构件相碰撞的点。
9.如权利要求7所述的电子乐器的键盘装置,其中:
该限制运动构件设置成使多个限制运动部中的每一个均位于作为多个点之间的中点的各个位置处,所述多个点是位于该封闭构件上且与所述枢转构件相碰撞的点;以及
该限制运动构件具有多个倾斜壁,所述倾斜壁的最低端是与所述枢转构件相碰撞的点,且所述倾斜壁的最高端是设置所述限制运动部的位置。
10.如权利要求7所述的电子乐器的键盘装置,其中:
该限制运动构件为近似竖直地设置的壁构件。
11.如权利要求7至10中任意一项所述的电子乐器的键盘装置,其中:
该限制运动构件与该封闭构件部分地接合。
12.如权利要求7至10中任意一项所述的电子乐器的键盘装置,其中:
所述枢转构件是所述键和与所述键的按压同步地进行枢转的质量体中的至少一种。
13.一种电子乐器的键盘装置,包括:
多个枢转构件,每个所述枢转构件均响应键的按压或释放而进行枢转;
框架,其支承所述枢转构件,以使得所述枢转构件能够枢转;以及
限动构件,其与所述枢转构件产生碰撞,以限制允许所述枢转构件枢转的范围;其中:
在该限动构件的、由一封闭构件部分地或全部地包围的封闭区域内容纳多个颗粒,且在沿着所述枢转构件的设置方向于该封闭构件上形成多个密封部的情况下,沿着所述枢转构件的设置方向在框架侧设置该限动构件。
14.如权利要求13所述的电子乐器的键盘装置,其中:
该封闭构件沿键的设置方向形成为管状。
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