[发明专利]用于控制盘驱动器中磁头运动的方法和装置

权利要求书

1.一种盘驱动器，其特征在于，包括：

磁头移动机构，其将磁头移动到旋转盘介质上的期望位置；

磁头运动控制单元，其在每个采样时间内限定从当前磁头位置延伸至所述期望位置的磁头运动轨迹，从而控制所述磁头移动机构；

存储单元，其存储表示所述盘介质上存在的缺陷部分的位置的缺陷位置信息；

确定单元，当所述磁头移动机构向所述期望位置移动所述磁头时，所述确定单元在每个采样时间中从所述缺陷位置信息确定接近所述缺陷部分的所述磁头的位置；以及

回避单元，所述回避单元基于所述确定单元确定的位置改变所述磁头的运动轨道，从而使得所述磁头回避所述缺陷部分。

2.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元由模型跟随控制系统构成；以及所述回避单元被配置为使得虚拟模型位置回避所述缺陷部分。

3.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元被配置为通过模型跟随控制方法来执行寻道控制；所述确定单元基于所述虚拟模型位置、所述磁头当前所在的所述伺服扇区以及所述缺陷位置信息，计算沿径向从伺服扇区到缺陷扇区的距离以及、沿周向的作为缺陷扇区间相角的距离；以及，所述回避单元被配置为，基于由所述确定单元计算出的距离校正作为虚拟模型输入值的模型驱动命令值，从而使得所述虚拟模型位置回避所述缺陷部分。

4.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述回避单元被配置为，基于源自所述缺陷部分的虚拟反作用产生校正轨道生成模型，从而改变所述磁头的运动轨道。

5.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元被配置为，通过模型跟随控制方法来执行寻道控制；所述确定单元被配置为，计算到缺陷部分的距离，所述缺陷部分沿磁头移动以及进行寻道操作的方向邻近所述磁头当前所在的位置；以及，所述回避单元被配置为，基于通过所述确定单元计算的距离，产生缺陷回避速度，以及输出所述缺陷回避速度作为用于寻道操作的速度的速度校正值。

6.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元被配置为，通过模型跟随控制方法来执行寻道控制；所述确定单元被配置为，计算到缺陷部分的距离，所述缺陷部分沿磁头移动以及进行寻道操作的方向邻近所述磁头当前所在的位置；所述回避单元被配置为，基于通过所述确定单元计算出的距离，产生缺陷回避速度，以及输出所述缺陷回避速度作为用于寻道操作的速度的速度校正值；以及，所述磁头运动控制单元包括速度生成单元，所述速度生成单元将利用所述校正值校正的速度值转换成虚拟模型输入值，以及将所述虚拟模型输入值输出为虚拟模型命令。

7.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元被配置为，通过模型跟随控制方法来执行寻道控制；以及，所述回避单元被配置为，产生校正的位置信息，所述校正的位置信息使得虚拟模型位置回避所述缺陷部分。

8.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述确定单元从所述缺陷位置信息检测所述缺陷部分，并且确定所述磁头已经接近所述缺陷部分的位置；以及，所述回避单元被配置为，基于源自所述缺陷部分的虚拟反作用改变所述磁头的运动轨道，从而使得所述磁头回避所述缺陷部分。

9.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述磁头运动控制单元由微处理器构成，所述微处理器被配置为，通过模型跟随控制方法来执行寻道控制。

10.根据权利要求1所述的盘驱动器，其特征在于，所述确定单元和所述回避单元由微处理器构成。

11.一种控制磁头运动的方法，包括磁头移动机构和磁头运动控制单元，所述磁头移动机构将磁头移动到旋转盘介质上的期望位置，所述磁头运动控制单元限定磁头的从所述磁头当前所在的位置延伸到期望位置的运动轨道，从而控制所述磁头移动机构，所述方法的特征在于，包括：

从所述缺陷位置信息，确定所述磁头接近所述缺陷部分的位置，同时通过所述磁头移动机构将所述磁头向期望位置移动；以及

基于确定的位置执行改变所述磁头的运动轨道的缺陷回避过程，从而使得所述磁头回避所述缺陷部分。