[发明专利]CeO2改性磺化聚醚醚酮质子交换膜及其制备方法

权利要求书

1.一种CeO₂改性磺化聚醚醚酮质子交换膜，其特征在于该交换膜的组成及其质量百分比：

磺化度DS为30～95的磺化聚醚醚酮SPEEK 88.5％～99.9％；

氧化铈CeO₂粉末：0.1％～10％。

2.根据权利要求1所述的CeO₂改性磺化聚醚醚酮质子交换膜，其特征在于所述的CeO₂粉末的颗粒粒径为40～50纳米。

3.根据权利要求1或2所述的CeO₂改性磺化聚醚醚酮质子交换膜，其特征在于所述的CeO₂粉末经表面修饰，其表面修饰方法为：将磺化度DS大于85的SPEEK和CeO₂粉末按质量比为       的比例溶解在水或乙醇溶液中，搅拌1～15h后，沉淀过滤，将沉淀物置于90～150℃下干燥5～15h，得到表面修饰后的CeO₂粉末。

4.根据权利要求1所述的CeO₂改性磺化聚醚醚酮质子交换膜的制备方法，其特征在于该方法的具体步骤为：

a.将磺化度DS为30～95的SPEEK溶解在制膜溶剂中，配制成质量百分比为5％～40％的制膜液；

b.在上述步骤a所得的制膜液中，加入CeO₂粉末，其用量为SPEEK质量的0.1％～10％；在20℃～80℃下，搅拌使CeO₂粉末在制膜液中分散均匀，得到混合制膜液；

c.将步骤b所得混合制膜液流延或压制成膜，然后在10℃～80℃下挥发溶剂，得到湿膜；

d.将步骤c所得湿膜在30℃～200℃下干燥0.5h～96h；或者先在30℃～100℃下干燥4h～72h，再升温至100℃～200℃干燥0.5h～6h，得到CeO₂改性SPEEK质子交换膜。

5.根据权利要求4所述的CeO₂改性SPEEK质子交换膜的制备方法，其特征在于所用的制膜溶剂为：N，N-二甲基甲酰胺DMF、N，N-二甲基乙酰胺DMAc或二甲基亚砜DMSo。