[发明专利]真空处理装置

权利要求书

1.一真空处理装置，其包括：

一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接，形成真空处理空间；

一对下部水平移动单元，分别安装在下盖相对侧；

一对上部水平移动单元，各个上部水平移动单元在各个下部移动单元上可旋转的和上盖连接，并以水平方向移动上盖从下盖分离；以及

一升降单元通过下部水平移动单元支撑并安装到其上，该升降单元从下盖分离上盖或通过提升或降低上部水平移动单元使上盖和下盖连接。

2.如权利要求1所述的真空处理装置，其中各上部水平移动单元包括一上部引导单元可旋转地在上盖的每一侧和上盖连接，一上部水平移动部件与上部引导单元连接，用来使上盖的水平移动沿着上部引导单元，上部水平移动部件可旋转地与上盖连接；以及

各下部水平移动单元，包括一以水平方向安装在下盖各侧的下部引导单元，和一连接下部引导单元的下部水平移动部件，使下盖的水平移动沿着下部引导单元。

3.如权利要求2所述的真空处理装置，其中升降单元包括至少一第一提升移动单元，该第一提升移动单元的一末端连接下部引导单元，其另一末端连接上部引导单元，该第一提升移动单元提升或降低上部引导单元，和至少一第二提升移动单元，该第二提升移动单元的一末端连接下部水平移动部件，其另一末端连接上部水平移动部件，该第二提升移动单元提升或降低上部移动部件。

4.一真空处理装置，该装置包括：

一负载锁定腔，其用来从外侧接收要进行真空处理的基片和传输处理后的基片到外侧；一传输腔，其用来从负载锁定腔接收要进行真空处理的基片和传输处理后的基片到负载锁定腔；以及一处理腔，其用来从传输腔接收要进行真空处理的基片，在基片上进行真空处理和传输处理后的基片到传输腔；

其中真空处理腔包括一上盖和一下盖，该上盖和下盖可分离地相互连接，构成一真空处理空间；和一水平移动单元，通过以垂直于上盖连接邻近腔室的连接方向上水平移动上盖，用来从下盖分离上盖。