[发明专利]基板处理装置的控制装置、控制方法和存储有控制程序的存储介质

说明书

技术领域

本发明涉及对基板实施规定处理的基板处理装置的控制装置、控制方法和存储有控制程序的存储介质，更详细地说，涉及控制基板搬送的方法。

背景技术

近年来，半导体工厂内配置的大部分的基板处理装置，在具有搬送基板的搬送机构的同时，具有2个以上对基板实施规定处理的处理室。在这样在基板处理装置中设置有多个处理室的情况下，如何在多个处理室中搬送大量的基板，对于提高基板处理的处理能力从而提高产品的生产率是非常重要的。

因此，在现有的基板处理装置中，为了同时在不同的处理室中对不同的基板进行处理，对每个基板改变搬送路径，依次将不同的基板搬送到不同的处理室(以下也称为OR搬送)，控制各基板的搬送路径，使得各基板依次经由2个以上的处理室而进行处理(例如，参照专利文献1)。由此，能够高效地对基板进行处理。

另外，在现有的另一个基板处理装置中，根据表示各处理室能否运转的信号，仅向运转有效的处理室组中搬送基板(例如，参照专利文献2)。由此，即使在某一个处理室由于故障等而不能使用的情况下，也能够使用其它的处理室高效地对基板进行处理。

[专利文献1]特开昭63-133532号公报

[专利文献2]特开平11-67869号公报

但是，当通过将不同的基板依次搬送到正常运转中的不同处理室，在各处理室中同时对各基板进行同一处理时，虽然基板处理的处理能力提高，但是，由于各处理室本来就存在的个体差异、和因使用频率的不同而引起的各处理室内的气氛的偏差，各基板的处理(加工)状态会产生偏差。

另一方面，因为同一批次(lot)是制造同一制品的一个单位，所以同一批次中包含的基板的加工状态最好是均匀、没有偏差。特别地，近年来，要求非常微细的加工的制品正在增加。对于这样的微细加工的要求，需要高精度地对同一批次内的基板进行处理，每个基板没有偏差而制作出均匀且高品质的制品。因此，出现了至今为止允许的处理状态的偏差在制品的特性上不被允许的情况。

在这样的情况下，对于要求微细加工的批次，也可以考虑要求主计算机将基板的搬送方法从由系统方案指定的方法变更为加工状态不产生偏差的其它方法，由此，主计算机根据该要求而将基板的搬送方法改变为其它的适当的搬送方法。但是，对于统括半导体工厂并对系统整体进行管理的主计算机要求这样的作业，是非常烦杂且不现实的，而且需要大幅改变主计算机侧的系统的功能。结果，直到系统稳定运转为止，不希望基板处理系统整体出现即使是暂时的不稳定状态。

发明内容

因此，本发明提供根据每批次(lot)所要求的微细加工的程度，对搬送方法的变更进行控制的基板处理装置的控制装置、控制方法和存储有控制程序的存储介质。

即，为了解决上述课题，根据本发明的一个方面，提供一种控制装置，其对基板处理装置进行控制，该基板处理装置包括对基板进行规定处理的多个处理室和搬送上述基板的搬送机构，其特征在于，包括：选择部，选择接下来应该搬送到的处理室，并且根据每批次所要求的微细加工的程度，针对每个批次选择使搬送到同一处理室的基板的单位为1批次单位或者1基板单位中的任一个；和搬送控制部，将由上述选择部选择的单位中包含的基板依次搬送到由上述选择部选择的处理室中。

由此，根据每批次所要求的微细加工的程度，针对每个批次选择使搬送到同一处理室的基板的单位为1批次单位或者1基板单位中的任一个。当选择1批次单位时，该批次中包含的基板全部被搬送到同一处理室中。由此，能够避免由于将不同的基板搬送到不同的处理室，各基板的加工状态由于各处理室的个体差异和各处理室的气氛的差异而产生偏差。即，通过将批次内的基板全部在同一处理室内进行处理，1批次内的全部基板在同一环境中进行处理，由此能够制造出1批次单位中特性没有偏差的大致同一的制品。

特别地，近年来，要求非常微细的加工的制品正在增加。对于这样的微细加工的要求，需要对同一批次中包含的多个基板进行均匀且高品质的处理，因此产生了至今为止允许的加工状态的偏差不被允许的情况。

但是，即使是这样的情况，根据上述的结构，要求微细加工的批次中包含的基板的搬送方法，通过控制装置的指示可变更为加工状态不产生偏差的上述搬送顺序。这样，控制装置本身变更搬送单位，而不对主计算机要求变更搬送单位，由此，能够迅速地应对用户的要求，而不大幅改变当前正在运转的主计算机侧的系统的功能。