[发明专利]触控荧幕及其面板和制作方法无效

专利信息
申请号: 200710196299.2 申请日: 2007-12-07
公开(公告)号: CN101452362A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 张绍雄;张起豪;陈央嶙 申请(专利权)人: 台达电子工业股份有限公司
主分类号: G06F3/045 分类号: G06F3/045
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 荧幕 及其 面板 制作方法
【权利要求书】:

1.一种触控面板,包括:

基板,具有触控区及周边区;

传导电路层,形成于该基板的该周边区;

电阻层,形成于该传导电路层及该基板的该触控区上;以及

介电层,形成于该电阻层上或该触控区的电阻层上。

2.如权利要求1所述的触控面板,其中该传导电路层还包括多个信号 端,设置于该基板的角落,为该传导电路层的角落电极。

3.如权利要求2所述的触控面板,其还包括外部线路,与该多个信号 端电性连接,用以对该触控面板施加电压及接收电流,其中该外部线路包括 走线、排线及芯片。

4.如权利要求1所述的触控面板,其中该基板为玻璃基板或塑料基板。

5.如权利要求1所述的触控面板,其中该传导电路层的材料为铜或银 胶。

6.如权利要求1所述的触控面板,其中该传导电路层为不连续电极。

7.如权利要求1所述的触控面板,其中该电阻层的材料为透明导电金 属氧化物。

8.如权利要求7所述的触控面板,其中该电阻层的材料为铟锡氧化物、 铟锌氧化物、铝锌氧化物、镓锌氧化物或氧化锌。

9.如权利要求1所述的触控面板,其中该介电层包括至少一抗反射层 和/或至少一硬化层。

10.如权利要求9所述的触控面板,其中该抗反射层的材料为氧化硅、 氮化硅或氮氧化硅。

11.如权利要求1所述的触控面板,其还包括:

保护层,形成于该周边区的该介电层上或该周边区的该电阻层上,

12.如权利要求1所述的触控面板,其中该保护层的材料为环氧树脂或 硅胶。

13.一种触控面板的制作方法,包括:

提供基板,其具有触控区及周边区;

形成传导电路层于该基板的该周边区;

形成电阻层于该传导电路层及该基板的该触控区上;以及

形成介电层,形成于该电阻层上或该触控区的电阻层上。

14.如权利要求13所述的触控面板的制作方法,其中该传导电路层为 不连续电极,该传导电路层还包括多个信号端,设置于该基板的角落,为该 传导电路层的角落电极。

15.如权利要求13所述的触控面板的制作方法,其中该传导电路层通 过涂布、印刷、贴合或镀膜方式形成于该基板上。

16.如权利要求13所述的触控面板的制作方法,其中该介电层包括至 少一抗反射层和/或至少一硬化层,该抗反射层的材料为氧化硅、氮化硅或氮 氧化硅。

17.如权利要求13所述的触控面板的制作方法,其还包括形成保护层 于该周边区的该介电层上或该周边区的该电阻层上,其中该保护层的材料为 环氧树脂或硅胶。

18.如权利要求13所述的触控面板的制作方法,其中形成该电阻层的 该步骤及形成该介电层的该步骤通过一次进出镀膜设备而完成。

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