[发明专利]硬涂薄膜的制造方法、硬涂薄膜、偏振片和图像显示装置无效

专利信息
申请号: 200710199174.5 申请日: 2007-12-18
公开(公告)号: CN101204697A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 新纳铁平;鹰尾宽行;楠本诚一;滨本大介;重松崇之 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B05D7/24 分类号: B05D7/24;B05D1/38;B05C11/02;C09D175/14;B32B27/08;B32B27/20;B32B33/00;G02B5/30
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 制造 方法 偏振 图像 显示装置
【权利要求书】:

1.一种硬涂薄膜的制造方法,该硬涂薄膜是在透明塑料薄膜基材的至少一个表面上具有硬涂层,该硬涂薄膜的制造方法包含下述工序:准备包含硬涂树脂和溶剂的硬涂层形成材料的准备工序;在所述透明塑料薄膜基材的至少一个表面上涂布所述硬涂层形成材料而形成涂膜的涂膜形成工序;和通过使所述涂膜固化,从而形成所述硬涂层的硬涂层形成工序;其中调整所述硬涂层厚度A和所述透明塑料薄膜基材厚度B中的至少一个以使得所述硬涂层厚度A和所述透明塑料薄膜基材厚度B之比A/B为1/2.6以上的范围。

2.如权利要求1所述的硬涂薄膜的制造方法,其中调整所述硬涂层厚度A和所述透明塑料薄膜基材厚度B中的至少一个以使得所述硬涂层厚度A和所述透明塑料薄膜基材厚度B之比A/B为1/2.5以上的范围。

3.如权利要求1所述的硬涂薄膜的制造方法,其中所述硬涂层厚度A调整为15~35μm的范围,所述透明塑料薄膜基材厚度B调整为15~50μm的范围。

4.如权利要求1所述的硬涂薄膜的制造方法,其中在所述硬涂层形成工序中,所述涂膜的宽度方向的固化收缩力是9N/cm2以上。

5.如权利要求1所述的硬涂薄膜的制造方法,其中所述硬涂树脂包含下述A成分、B成分和C成分,

A成分:聚氨酯丙烯酸酯和聚氨酯甲基丙烯酸酯中的至少一个;

B成分:多元醇丙烯酸酯和多元醇甲基丙烯酸酯中的至少一个;

C成分:由下述C1和C2中的至少一个形成的聚合物或共聚物、或所述聚合物和共聚物的混合聚合物,

C1:具有包括羟基和丙烯酰基之中的至少一个基团的烷基的丙烯酸烷基酯;和

C2:具有包括羟基和丙烯酰基之中的至少一个基团的烷基的甲基丙烯酸烷基酯。

6.如权利要求1所述的硬涂薄膜的制造方法,其还包含形成防反射层的工序。

7.如权利要求6所述的硬涂薄膜的制造方法,其中所述防反射层含有中空且球形的氧化硅微粒。

8.一种由权利要求1所述的制造方法制造的硬涂薄膜。

9.如权利要求8所述的硬涂薄膜,其中所述硬涂层的外侧表面结构是凹凸结构。

10.一种偏振片,其具有起偏振器和硬涂薄膜,其中所述硬涂薄膜是权利要求8所述的硬涂薄膜。

11.一种图像显示装置,其包含硬涂薄膜,其中所述硬涂薄膜是权利要求8所述的硬涂薄膜。

12.一种图像显示装置,其包含偏振片,其中所述偏振片是权利要求10所述的偏振片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710199174.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top