[发明专利]溅镀装置

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种溅镀装置。

背景技术

镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。镀膜技术是利用物理、化学手段在固体表面涂覆一层特殊性能的薄膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁或绝缘等许多优越性能，从而达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、军事等领域。因此，镀膜技术被誉为最具发展前途的重要技术之一。

溅镀是利用辉光放电产生的离子去撞击靶材，将靶材内的原子撞出而沉积在基材上。由于溅镀可以同时达成极佳的沉积效率、大尺寸的沉积厚度控制、精确的成份控制及较低的制造成本，因此在工业上很实用。

现在手机相机的应用已日渐普及，因此必须提升关键零组件制程，才能有效降低成本及提升良率。手机相机光学模块中的镜筒、镜座等组件由于体积小且产量大，因此对该类组件镀膜使用的装置必须能满足大量生产的需要。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种能够同时对大量工件进行镀膜的镀膜装置。

一种溅镀装置，其包括一个腔体、一个承载部及至少一个靶体。所述腔体内形成有一个溅镀腔，所述承载部及所述至少一个靶体设于溅镀腔内。所述承载部包括一个转盘及多个穿设于所述转盘的转柱，所述转柱用于悬挂待镀工件，其能够随所述转盘一起转动且能够沿转柱自身中心轴转动。

所述溅镀装置具有多个转柱，可在所述多个转柱上固定大量的小型待镀工件，从而可同时对大量工件进行溅镀，提高溅镀效率。且所述多个转柱不仅可随转盘一起转动，而且可沿自身中心轴转动，从而可提高其上固定的待镀工件所镀膜层的膜厚一致性。

附图说明

图1是本发明实施例提供的溅镀装置剖视图。

图2是本发明实施例提供的溅镀装置立体分解图。

图3是本发明实施例提供的溅镀装置中的承载部的立体分解图。

图4是本发明实施例提供的溅镀装置中的靶体俯视图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图1，为本发明实施例提供的一种溅镀装置100，其包括一个腔体10、一个承载部20及至少一个靶体30。

所述腔体10内形成有一个溅镀腔11，所述腔体10具有一个进气口12及一个抽气口13与所述溅镀腔11连通。本实施例中，所述进气口12与五个进气管1、2、3、4、5连通，所述每个进气管上均具有一个流量控制器6及一个阀门7。所述进气管1通入气体可为氩气、氪气或氦气。所述进气管2通入气体可为氧气。所述进气管3通入气体可为氮气。所述进气管4通入气体可为氢气、甲烷或乙烷等。同样的，所述进气管5可根据需要通入其它气体。

所述抽气口13用于在溅镀装置100进行真空溅镀前，对所述溅镀腔11进行抽真空操作。本实施例中，所述抽气口13可通过抽气管14与一个机械真空泵17直接连接，也可通过抽气管15及一个高真空泵16与所述机械真空泵17连接，并通过所述机械真空泵17将气体排出。所述机械真空泵17又名初级泵、低真空泵及前置泵。所述高真空泵16可为涡轮泵、低温抽气泵或扩散泵。所述抽气管14上具有一个阀门141，所述高真空泵16与抽气口13之间设有一个阀门151，所述高真空泵16与机械真空泵17之间设有一个阀门152。在实际抽真空操作中，所述机械真空泵17及阀门141首先开启，通过机械真空泵17直接对溅镀腔11进行抽真空操作，使溅镀腔11的真空度达到100托左右，然后关闭所述阀门141，开启高真空泵16、阀门151及阀门152，与所述机械真空泵17配合一同对溅镀腔11进行抽气。涡轮泵及低温抽气泵可使溅镀腔11内的真空度达到5×10^-6托，甚至2×10^-7托。扩散泵可使溅镀腔11内的真空度达到5×10^-5托，甚至2×10^-6托。所述抽气口13还与通气管18连接，所述通气管18用于向溅镀腔11内通入氮气或干燥清洁的空气，以便于溅镀完成后打开腔体10。

请参阅图2及图3，为便于显示腔体10内部的结构，图2中将腔体10拆分为两部分，即底部101和由腔体10的顶部102及侧壁103组成的盖体104。所述承载部20具有一个固定座21、一个转盘22及多个转柱23。所述多个转柱23穿设于所述转盘22上，所述转盘22可沿其中心轴转动，所述多个转柱23可在跟随转盘22公转同时绕自身中心轴自转。