[发明专利]一种电镀液中有机添加剂浓度的测定方法

权利要求书

1.一种电镀液中有机添加剂浓度的测定方法，其特征在于，该方法包 括将待测电镀液中有机添加剂的峰电位与该有机添加剂的标准曲线比较，确 定该待测电镀液中该有机添加剂的浓度，所述有机添加剂的标准曲线为反映 该待测电镀液中该有机添加剂的浓度与峰电位关系的曲线，所述峰电位通过 循环伏安剥离法或循环脉冲伏安剥离法测定得到，所述循环伏安剥离法或循 环脉冲伏安剥离法测定峰电位的方法包括将作为工作电极的惰性电极和作 为参比电极的银-氯化银电极置于待测电镀液中，所述工作电极以－2V-2V的 扫描电压进行扫描，扫描速率为1-100mv/s，从而得到待测电镀液的剥离峰， 然后从该剥离峰读取峰电位，所述惰性电极为多孔网状铂电极，所述多孔网 状铂电极通过水热法或电镀法将铂沉积到钛片上而形成；其中，所述有机添 加剂为抑制剂和/或光亮剂。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机添加剂的标准曲线的 制作方法包括：通过循环伏安剥离法或循环脉冲伏安剥离法测定多个有机添 加剂浓度不同的标准镀液的峰电位，建立标准镀液的峰电位与有机添加剂浓 度的对应关系。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述待测电镀液中的有机添加 剂为抑制剂或光亮剂，该方法包括直接采用循环伏安剥离法或循环脉冲伏安 剥离法测定待测电镀液中有机添加剂的峰电位。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述待测电镀液中的有机添加 剂为抑制剂和光亮剂，该方法包括分别测定抑制剂和光亮剂的浓度；测定所 述待测电镀液中抑制剂浓度的方法包括用空白镀液稀释待测电镀液至所述 待测电镀液中光亮剂浓度不超过50ppm，所述空白镀液为不含抑制剂和光亮 剂的待测电镀液，然后采用循环伏安剥离法或循环脉冲伏安剥离法测定待测 电镀液中抑制剂的峰电位；测定所述待测电镀液中光亮剂浓度的方法包括在 所述待测电镀液中加入抑制剂，使得该待测电镀液中抑制剂浓度为20ml/L 以上，然后采用循环伏安剥离法或循环脉冲伏安剥离法测定待测电镀液中光 亮剂的峰电位。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述水热法包括在加热条件下 将钛片与含H₂PtCl₆和甲醛的溶液接触，将铂沉积到所述钛片上；所述溶液 中，H₂PtCl₆的浓度为0.1-1.5g/L，所述甲醛的浓度为30-60g/L，所述接触的 温度为160-200℃，接触的时间为5-15小时，所述含H₂PtCl₆和甲醛的溶液 的用量为所述钛片的重量的10-100倍。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述电镀法包括以钛片为阴极， 以铂为阳极，在铂镀液中进行电镀，所述电镀的温度为20-35℃，时间为4-15 分钟，电流密度为0.005-0.01A/dm²。

7.根据权利要求3或4所述的方法，其中，所述抑制剂为聚己烯己二 醇、聚已二醇、聚丙烯二醇中的一种或几种。

8.根据权利要求3或4所述的方法，其中，所述光亮剂为二硫代胺基 甲酸酯、聚二硫二丙烷磺酸钠、硫脲中的一种或几种。