[发明专利]光图像计测装置无效
申请号: | 200710302263.8 | 申请日: | 2007-12-24 |
公开(公告)号: | CN101209199A | 公开(公告)日: | 2008-07-02 |
发明(设计)人: | 木川勉;冈田浩昭;林健史;田央;福间康文 | 申请(专利权)人: | 株式会社拓普康 |
主分类号: | A61B3/00 | 分类号: | A61B3/00;G01B9/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本东京*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 装置 | ||
技术领域
本发明关于一种光图像计测装置,将光束照射到被测定物体上,使用其反射光或穿透光,形成被测定物的表面形态。
背景技术
近年来,使用激光光源等的光束来形成显示被测定物体表面形态与内部型态的光图像计测技术备受瞩目。此光图像计测技术因为不像X射线CT装置般的对人体有侵袭性,所以受期望能在医疗领域的应用开展。
特开平11-325849号公报(专利文件1)揭示一种光图像计测装置,其结构为:测定臂通过旋转式转向镜(检流计镜)对物体进行扫描,在参照臂上设置参照镜,而更在其出口处,利用干涉仪,将来自计测臂和参照臂的光束的干涉而呈现的光的强度以分光仪进行分析,并在参照臂设置装置以不连续的值阶段地改变参照光光束的相位。
专利文件1的光图像计测装置是使用以德国专利申请案公开第DE4309056A号说明书(专利文件2)为基本技术,即所谓的傅立叶OCT(Fourier Domain Optical Coherence Tomography)的手法。也就是说,对被测定物体照射低相干光,取得其反射光的频谱强度分布,在其该分布做傅立叶变换,藉此将被测定物体的深度方向(z方向)的形态图像化。
再者,专利文件1记载的光图像计测装置具备扫瞄光束(信号光)的检流计镜,藉此可以形成被测定物体所要的测定对象区域的图像。另外,在此光图像计测装置中,因为仅在与z方向垂直的一个方向(x方向)对光束进行扫描,形成的图像会成为沿着光束扫描方向(x方向)且在深度方向(z方向)的二维剖面图像。
另外,日本专利申请公开第特开2003-543号公报(专利文件3)揭示将这种光图像计测装置应用在眼科领域的架构。
光图像计测装置是对与参照臂长度(参照光的光路径长)约略相同的深度进行计测,并且形成图像。因此,为了取得所需要的深度位置的图像,必须要在与该深度位置相对应的位置上配置参照镜。此参照镜的定位,即在深度方向的计测位置的定位,若是以使用低相干光来看,必须要精密地进行。
另外,在光图像计测装置中,在与参照光光路径长一致的深度位置(z方向的原点)的计测感度是最好的。随着越远离该原点,计测感度会降低。由此观点来看也可以知道在深度方向的计测位置的定位是需要精密度。
但是,旧有的光图像计测装置的问题是不容易进行在此被测定物体深度方向的计测位置的定位。
发明内容
本发明是为了要解决上述的问题,提供一种光图像计测装置,可以容易地进行被测定物体深度方向的计测位置的定位。
为达成上面叙述,本发明的第一观点是提供一种光图像计测装置,其包括:光源、干涉光产生元件、变更元件、检测元件、图像形成装置、分析元件及控制元件。光源输出低相干光。干涉光产生元件将输出的低相干光分割成导向被测定物体的信号光以及导向参照物体的参照光,并使经由被测定物体的信号光和经由参照物体的参照光重叠,以产生干涉光。变更元件改变信号光和参照光的光路径长度差。检测元件检测产生的干涉光。图像形成装置基于检测元件的检测结果形成图像。分析元件分析形成的图像,计算出图像的信号水平或相对于信号水平的噪声比,判断信号水平或相对于信号水平的噪声比是否超过临界值。控制元件控制变更元件,在通过分析元件判断为信号水平或相对于信号水平的噪声比超过临界值时,改变光路径长度差。
另外,本发明的第二观点是提供一种光图像计测装置,其包括:光源、干涉光产生元件、变更元件、检测元件、图像形成装置、及控制元件。光源输出低相干光。干涉光产生元件将输出的低相干光分割成导向被测定物体的信号光以及导向参照物体的参照光,并使经由被测定物体的信号光和经由参照物体的参照光重叠,以产生干涉光。变更元件改变信号光和参照光的光路径长度差。检测元件检测产生的干涉光。图像形成装置基于检测元件的检测结果,在预定的图框内形成图像。控制元件控制变更元件,改变光路径长度差,以使得将在形成的图像上的与被测定物体的预定深度位置相当的部分图像,配置在预定的图框内的指定位置。
发明效果
本发明的结构因为是变更信号光与参照光的光路径长度差,以使图像的信号水平或对信号水平的噪音水平比超过临界值,故可以自动地取得包含被测定物体的图像。因此,根据本发明的话,可以容易地进行在被测定物体深度方向的计测位置的定位。
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