[发明专利]用于钕铁硼磁钢防腐的电镀方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于钕铁硼磁钢防腐的电镀方法。

背景技术

钕铁硼永磁体极易在空气中氧化，在许多环境中均易腐蚀，从而使磁性能下降，寿命缩短。申请号为200410048456.6的中国专利申请公开了一种在钕铁硼表面镀双层合金镀层的方法，但此种方法的镀层较厚，所需电镀时间较长，且所得产品的表面的整洁度不够好，同时其电镀产生的废液的处理困难，处理废液的成本较高。

发明内容

本发明解决了现有技术所存在的上述技术问题，提供了一种生产钕铁硼磁钢防腐镀层的方法。

本发明的上述技术目的是通过以下技术方案解决的：一种用于钕铁硼磁钢防腐的电镀方法，包括以下步骤：

前处理：将钕铁硼磁体进行倒角、除油、漂洗、酸洗、活化、再漂洗处理；

纳米复合电镀：将前处理后的钕铁硼磁体在纳米复合电镀槽中进行含有纳米添加剂的纳米复合电镀镍，所述的纳米复合电镀槽中电镀液的组成是：NiSO₄.6H₂O浓度为240～300g/L，NiCl₂.6H₂O浓度为40～60g/L，H₃BO₃浓度为35～55g/L，SBN-301柔软剂浓度为4～8mL/L，SBN-302填平剂浓度为0.1～0.3mL/L，N-17润湿剂浓度为1～3mL/L；

电镀锡：将上述纳米复合电镀镍后的钕铁硼磁体在镀锡槽中进行镀锡，上述电镀液的组成为：SnSO₄浓度为20～30g/L，H₂SO₄浓度为140～160g/L，光亮剂A浓度为20～30mL/L，光亮剂B浓度为1.0～2.0mL/L，所述电镀时的温度为15～25℃；

电镀光亮镍：将上述电镀锡后的钕铁硼磁体在光亮镀镍槽中进行镀光亮镍，上述电镀液组成为：NiSO₄.6H₂O浓度为240～300g/L，NiCl₂.6H₂O浓度为40～60g/L，H₃BO₃浓度为35～55g/L，SBN-100主光剂浓度为0.2～0.8mL/L，SBN-101柔软剂浓度为2～4mL/L，N-17润湿剂浓度为1～3mL/L。

作为优选，所述的纳米复合电镀步骤中所用的电镀液的PH值在3.6～4.4之间，电镀时的温度在50～60℃之间。

作为优选，所述的纳米复合电镀步骤中所用的电镀液中还有SN-1纳米浆料，其浓度为20～40mL/L。

作为优选，所述的纳米复合电镀步骤中所用的电镀液中还有SBN-304电位差剂，其浓度是0.1～1.0mL/L。

作为优选，所述的电镀锡步骤中所用的电镀液中还有稳定剂C，其浓度为30～40mL/L。

作为优选，所述的电镀锡步骤中所用的电镀液中还有能显著提高镀液分散能力的走位剂D，其浓度为3～7mL/L；温度在5～25℃之间。

作为优选，所述的电镀光亮镍步骤中电镀液的PH值在4.0～4.8之间，温度在50～60℃之间。

通过本发明的上述方法得到的产品的防腐性能极其优异，在达到相同的防腐效果下，镀层的厚度只需要传统多层镍总厚度(或铜镍组合镀层总厚度)的60～70％，从而在提高产品品质的前提下，还节约了昂贵的金属镍或铜。

本发明采用上述工艺由于镀层厚度大幅度减少，因此工艺流程短，缩短了电镀时间，提高了生产效率。

本发明所述的工艺所得产品镀层填平性能优良，微小的纳米颗粒在电镀时参与了宏观填平，增加了基体表面的平整度，从而减少了获得平整镀层的电镀时间。

同时本发明所采用工艺的污水处理相对简单，减少污水处理成本。

在镀层平均总厚度为12um左右(纳米复合镍层6um，锡层3um，亮镍层3um)的情况下，耐中性盐雾试验至少可达120小时以上，耐压力容器试验至少达到96小时以上，耐热试验≤150℃。

下面对本发明的技术方案做进一步的说明。

前处理是按照钕铁硼磁钢常规的前处理工艺进行。

所述的纳米复合电镀是由于锡、镍的电极电位不同，故纳米复合电镀镍采用半光亮镀镍工艺，形成与锡电极电位差不多的纳米镍镀层。

纳米复合电镀后的中间处理是由于镍镀层容易钝化，在镀锡之前应进行漂洗、活化、再漂洗。