[发明专利]面状电感耦合结构有效

专利信息
申请号: 200710305569.9 申请日: 2007-12-27
公开(公告)号: CN101471468A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: 李明纬;王锦荔 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01F17/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 彭久云
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电感 耦合 结构
【权利要求书】:

1.一种面状电感耦合结构,包括:

第一平面型电感,内埋于绝缘材料层中;以及

第二平面型电感,内埋于该绝缘材料层中,其中该第一平面型电感与该 第二平面型电感实质上有相同的高度,且对于一水平分布有一部分是第一耦 合重叠区域,且相互电性绝缘,

其中该第一平面型电感有一厚度,是由至少一导电层所组成;该第二平 面型电感有一厚度,是由至少一导电层所组成。

2.如权利要求1所述的面状电感耦合结构,其中该第一平面型电感与第 二平面型电感有实质上相等的厚度,分别由至少一导电层所组成。

3.如权利要求2所述的面状电感耦合结构,其中该第一平面型电感与第 二平面型电感的至少其一是由三个导电层所组成。

4.如权利要求1所述的面状电感耦合结构,还包括至少一第三平面型电 感,在该水平分布上与该第一平面型电感及该第二平面型电感的至少其一有 第二耦合重叠区域。

5.如权利要求4所述的面状电感耦合结构,该第三平面型电感与该第一 平面型电感实质上有相同的高度。

6.如权利要求1所述的面状电感耦合结构,其中该第一平面型电感与该 第二平面型电感的至少其一是平面螺旋型电感。

7.一种面状电感耦合结构,包括:

第一平面型电感,内埋于绝缘材料层中;以及

第二平面型电感,内埋于该绝缘材料层中,其中该第一平面型电感与第 二平面型电感,位于不相同高度,且在一水平方向有一部分是一耦合重叠区 域,且相互电性绝缘,

其中该第一平面型电感有一厚度,是由至少一导电层所组成;该第二平 面型电感有一厚度,是由至少一导电层所组成。

8.如权利要求7所述的面状电感耦合结构,其中该第一平面型电感与第 二平面型电感有实质上相等的厚度,分别由至少一导电层所组成。

9.如权利要求8所述的面状电感耦合结构,其中该第一平面型电感与第 二平面型电感的至少其一是由三个导电层所组成。

10.如权利要求7所述的面状电感耦合结构,还包括至少一第三平面型电 感,在该水平方向上与该第一平面型电感及该第二平面型电感的至少其一有 第二耦合重叠区域。

11.如权利要求10所述的面状电感耦合结构,该第三平面型电感与该第 一平面型电感是不同高度。

12.如权利要求7所述的面状电感耦合结构,其中该第一平面型电感与该 第二平面型电感的至少其一是平面螺旋型电感。

13.一种面状电感耦合结构,包括:

第一导电层,在一绝缘材料层内,其中该第一导电层包含第一区域与第 二区域,且该第一区域与该第二区域有非全部的重叠区域;

第二导电层,在该绝缘材料层内,且位于该第一导电层的该第一区域与 该第二区域上;

第三导电层,在该绝缘材料层内,且位于该第二导电层上,分别对应该 第一区域与该第二区域,与该第二导电层以及该第一导电层电性连接,构成 相互绝缘的第一平面型电感与第二平面型电感,

其中,通过该第一导电层、该第二导电层与该第三导电层三个导电层的 线路布局,允许该第一平面型电感与该第二平面型电感在输出端、输入端与 交叉区域处重叠;该第一平面型电感与该第二平面型电感达到相等总厚度的 结构。

14.如权利要求13所述的面状电感耦合结构,该第一导电层、该第二导 电层、该第三导电层与该绝缘材料层构成半导体结构层,形成于介电结构层 中。

15.如权利要求13所述的面状电感耦合结构,其中该第一导电层更至少 包含第三区域,与该第一区域以及该第二区域的至少其一重叠耦合。

16.如权利要求13所述的面状电感耦合结构,其中该第一平面型电感与 该第二平面型电感的至少其一是平面螺旋型电感。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710305569.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top