[实用新型]白光干涉测量样品表面形状精细分布的装置无效

专利信息
申请号: 200720032044.8 申请日: 2007-06-15
公开(公告)号: CN201050978Y 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: 张民芳;成武 申请(专利权)人: 西安普瑞光学仪器有限公司
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02;G01B11/30
代理公司: 西安文盛专利代理有限公司 代理人: 李中群
地址: 710065陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 白光 干涉 测量 样品 表面 形状 精细 分布 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型内容属于光学测量仪器技术领域,涉及一种光学非接触测量装置,特别是一种利用白光干涉原理测量样品表面形状精细分布的测量装置。

背景技术

近年来,随着精密制造技术的进步与发展,利用光干涉方法及其装置检测物体表面形状特别是精密光学平面物体表面形状的技术已得到日益广泛的应用。目前本领域已为使用者公知的光干涉测量仪主要有单波干涉仪和多波干涉仪两种类型,但它们在用于对具有光学平面的试验物体或样品表面形状分布进行非常高精度的测量时,相应还存在有数据采样时间较长、仪器本身的抗干扰能力较差以及仪器的测量精度和工作稳定性不高等问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于对现有技术存在的问题加以解决,进而提供一种结构设计合理、操作使用方便、数据采样时间短、仪器抗干扰能力强、测量精度高和工作稳定性能好的白光干涉测量样品表面形状精细分布的装置。

为实现上述发明目的而采用的技术解决方案是这样的:所提供的白光干涉测量样品表面形状精细分布的装置具有一个由白光光源、透镜和半反半透分光镜组成的照明光源系统、一个由CCD相机和透镜组成的光学成像系统和一个由干涉显微物镜和样品放置台组成的垂直扫描系统,半反半透分光镜以45°倾角设置在照明光源系统的光轴方向上,将光源照明光束分为下行反射光和上行或平行透射光两束光,光学成像系统的透镜和CCD相机同轴依次设置在其透射光的光轴方向上,干涉显微物镜包括显微透镜、半反半透参考镜和分光镜,它们依次同轴设置在半反半透分光镜反射光轴的下方,样品放置台设置在干涉显微物镜的下方。控制结构上,该装置CCD相机的信号输出端与一台配备了图像采集卡和相关图像采集软件的计算机的信号输入端连接,干涉显微物镜设置在一个由计算机控制驱动做上下移动的闭环压电陶瓷驱动器上,计算机的输出工作端可以通过闭环压电陶瓷驱动器驱使干涉显微物镜做上下移动,使干涉显微物镜和试验样品之间形成不同的测量间距。

工作中,由半反半透分光镜反射的光束分别投射到样品和干涉显微物镜的参考镜表面,从这两个表面反射的两束光(参考光和物体光)再次通过半反半透分光镜后合成一束光,并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉,在CCD相机感光面会观察到明暗相间的干涉条纹。实际测量时,通过计算机自动控制,垂直扫描系统精密驱动干涉显微物镜从上往下移动,对样品表面进行扫描,使两束光光程差的大小发生改变。CCD相机通过图像采集卡与计算机连接,在扫描过程中的每一个抽样位置,CCD相机都拍摄一幅干涉图像,并将拍摄的图像实时传送给计算机。计算机将这些干涉图像依次整理,形成一系列干涉图像。

本实用新型所述测量装置所使用的光源为白光光源,包括连续分布单色光。各个单色光自己相干,形成各自独立的干涉条纹,各个单色光的干涉条纹在CCD相机感光面上线性叠加,形成白光干涉条纹。白光干涉条纹的强度与参考光和物体光两束光的光程差密切相关,当两束光的光程差相同时,各单色光干涉条纹具有相同的位相,最终合成的白光干涉条纹强度最大;随着干涉显微物镜与样品间距的变化,两束光的光程差出现了差别,各单色光的位相也相应出现差别,导致白光干涉条纹降低,直至最后消失,最终合成的白光干涉条纹信号具有振幅受到调制信号的余弦函数的分布。振幅调制信号与光源的光谱分布相关,一般具有高斯函数或近似高斯函数分布。高斯函数分布也可以称做是余弦函数的包罗线分布,它所出现的位置由样品的高度来决定,所以根据高斯函数分布中心即包罗线分布中心就可以唯一确定样品的高度。

在对测量数据的处理方面,本实用新型所述测量装置直接采集白光干涉条纹包罗线信息。由于包罗线的周期远远大于干涉条纹自身的周期,根据Nyquist采样原理,可使用较大的采样间隔,这样不仅大幅度降低了数据采集时间,而且有效抑制了高频噪声混入有用信号,提高了采样数据的信噪比,增强了装置本身的抗干扰能力。在采用大间隔采样的同时,本实用新型设计者还根据干涉条纹的周期性特点,引入了一种非等间隔采样算法,该采样算法经实验验证,在很大程度上提高了采样数据的信噪比。此外,在信号处理阶段,本实用新型不仅利用干涉条纹的强弱信息,还利用了干涉条纹的位相信息,使装置的测量精度以及工作稳定性都得到了极大的改善。

附图说明

附图为本实用新型一个具体实施例的结构示意图。

具体实施方式

以下将结合附图和实施例对本实用新型的内容做进一步说明,但本实用新型的实际制作结构并不仅限于下述的实施例。

参见附图,本实用新型所述的白光干涉测量样品表面形状精细分布的装置由白光光源4、透镜3、半反半透分光镜11、CCD相机1、透镜2、干涉显微物镜I、样品放置台9和闭环压电陶瓷驱动器10等组成。白光光源4、透镜3和半反半透分光镜11构成装置的照明光源系统,由其发出的照明光束经按45°倾角设置的半反半透分光镜11后分为下行反射光和上行透射光两束光。CCD相机1和透镜2构成装置的光学成像系统,设置在半反半透分光镜11透射光的光轴方向上,其中CCD相机1的信号输出端与计算机12的信号输入端连接。干涉显微物镜I的结构如附图中的虚线方框所示,由常规显微透镜5、半反半透参考镜6以及分光镜7组成,干涉显微物镜I和用于放置样品8的样品放置台9依次同轴设置在半反半透分光镜11反射光轴的下方,构成装置的垂直扫描系统。闭环压电陶瓷驱动器10受控于计算机工作,其作用是带动干涉显微物镜I沿上下移动,对样品8表面进行扫描。

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