[实用新型]天线测量系统及其发射天线结构无效
申请号: | 200720050904.0 | 申请日: | 2007-04-28 |
公开(公告)号: | CN201037856Y | 公开(公告)日: | 2008-03-19 |
发明(设计)人: | 周信辉 | 申请(专利权)人: | 佛山市顺德区顺达电脑厂有限公司神达电脑股份有限公司 |
主分类号: | G01R29/10 | 分类号: | G01R29/10;H01Q19/12 |
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地址: | 528308广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 天线 测量 系统 及其 发射 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种天线测量系统及其发射天线结构,特别是涉及用以测量天线远场场型的天线测量系统及其发射天线结构。
背景技术
由于通讯技术的发展,天线设计已普遍应用在通讯产品中,天线设计的好坏影响传输收讯问题,因此设计者需善用天线的增益、辐射场型及指向性等特性,以便让天线发挥出最大的效用。为准确测量出实际待测天线的辐射场型,测试场地须为一隔离室,用以屏蔽外部的电子电机造成的噪声干扰。
如图1所示,其为现有技术的一种测量天线远场场型的示意图,一隔离室11六个内壁面加装吸波组件12,用以防止内壁面形成反射波,藉此避免影响测试结果的准确性,且,吸波组件12一般采用介质损耗型,如聚氨脂类的泡沫塑料或亚铁磁砖等,吸波组件12的形状通常成圆锥状、棱角锥状或方楔形状,以保持连续渐变的焦耳阻抗结构。再者,在隔离室11内设置已知特性的发射天线13及一待测天线14,其中发射天线13用于发出工作波长为λ的无线电波,待测天线14的最大长度为D,又,由于测量远场场型须以平面波来进行测量,且待测天线14与发射天线13必须相隔2D2/λ的距离,方可将无线电波视为一平面波,因此测量所需的空间将随测量频段或天线种类的不同而改变。
然而,为符合测量各频段或不同种类天线的需求,通常需要很大的隔离室,以满足远场场型测试所须的距离条件,因此需要较大的空间及吸波组件,增加测量的成本及空间。目前,另有先行测量待测天线的近场场型,再经由快速傅利叶转换(Fast Fourier Transform,FFT)以求得待测天线的远场场型的方法,但此转换方法将增加软件分析的复杂度,因此需在分析上耗费较高的成本及时间。
由此,在成本、空间及方便性等因素的考虑下,本实用新型提出一种天线测量系统及其发射天线结构,用以作为上述问题的解决方法与依据。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种天线测量系统及其发射天线结构,特别是藉由反射天线的抛物面设计,以减小测量天线远场场型所需的距离条件,解决测量所需的成本及空间太大的问题,且不需增加软件分析的复杂度,增加测量上的方便性。
于此,为达上述目的,本实用新型公开了一种天线测量系统,其设置于所有壁面皆铺满吸波组件的测试空间中,此系统包括一待测天线、一反射组件、一发射源以及一阻抗结构。其中,发射源可朝反射组件的抛物面发出无线电波,而反射组件的抛物面,则用以反射此无线电波,使无线电波成为平面波,再藉由待测天线接收此平面波,以作为测量分析仪器测量待测天线远场场型的依据,且,阻抗结构连接于抛物面的外缘,以电性匹配反射组件,藉此可降低抛物面产生边缘绕射干扰的程度,增加测量的准确性。
综上所述,本实用新型的阻抗结构为一种贴片电阻,待测天线可为主动、被动棒状天线、环路天线、功率双锥天线、对数螺旋天线或喇叭天线等,且发射源及反射组件可采用主轴偏离聚焦一次反射的方式反射无线电波进而使其成为平面波,从而达到减少成本及测量空间且操作方便、快速等功效。
为使对本实用新型的实施及达成方式有更进一步的了解与认识,下文谨提供较佳实施例及相关图式以为辅佐之用,并以详细说明文字配合说明如后。
附图说明
图1为现有技术的一种天线测量系统的示意图。
图2为本实用新型发射天线结构的侧视图。
图3为本实用新型发射天线结构的正视图。
图4为本实用新型天线测量系统的示意图。
具体实施方式
为让本实用新型的上述目的、特征、和优点能更明显易懂, 下文依本实用新型天线测量系统及其发射天线结构,特举较佳实施例并配合所附相关图式,作详细说明如下,其中相同的组件将以相同的组件符号加以说明。
请同时参阅图2和图3,图2为本实用新型发射天线结构的侧视图,图3为本实用新型发射天线结构的正视图,此发射天线结构2适合运用于需低噪声干扰的天线测量系统中。图中,发射天线结构2包括发射源21、反射组件22及阻抗结构23,其中发射源21及反射组件22的组合为一种主轴偏离聚焦一次反射式天线的应用,反射组件22具有一抛物面221,以提供反射发射源21所发出的无线电波211,且无线电波211经抛物面221反射后,即沿着抛物面221的主轴方向222前进。再者,反射组件22及其抛物面221由导电材质所组成,因此在导电材质的边缘,即抛物面221外缘的地方,容易产生边缘绕射干扰的问题,因此,藉由阻抗结构23连接于抛物面221的外缘,其可电性匹配反射组件22,藉此可降低反射组件22及其抛物面221产生边缘绕射干扰的程度。
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