[实用新型]改进型软研磨垫无效
申请号: | 200720067978.5 | 申请日: | 2007-03-20 |
公开(公告)号: | CN201049442Y | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
发明(设计)人: | 王怀锋;苏东风;党国锋;张智伟 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24D17/00 | 分类号: | B24D17/00;B24B29/00;H01L21/304 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改进型 研磨 | ||
1.一种改进型软研磨垫,其表面具有大小相等、均匀分布的凸起的方格压纹,相邻方格压纹之间存在一定的间距,其特征在于:所述的软研磨垫上还开设有数个孔洞,且每两个孔洞之间间隔1~200个方格压纹。
2.如权利要求1所述的改进型软研磨垫,其特征在于:每两个孔洞之间间隔10~30个方格压纹。
3.如权利要求1所述的改进型软研磨垫,其特征在于:每个孔洞均开设在某一方格压纹内,且孔洞的大小小于该方格压纹的大小。
4.如权利要求3所述的改进型软研磨垫,其特征在于:每个孔洞的大小不小于1mm2。
5.如权利要求1所述的改进型软研磨垫,其特征在于:所述的软研磨垫上还开设有一窗口。
6.如权利要求5所述的改进型软研磨垫,其特征在于:所述的窗口是矩形的。
7.如权利要求6所述的改进型软研磨垫,其特征在于:所述窗口的边长介于1到100个方格压纹的宽度。
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