[实用新型]薄膜应力测量装置无效

专利信息
申请号: 200720068607.9 申请日: 2007-04-03
公开(公告)号: CN201043921Y 公开(公告)日: 2008-04-02
发明(设计)人: 申雁鸣;袁磊;邵淑英;范正修;贺洪波;易葵;邵建达 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01L1/00 分类号: G01L1/00;G01B11/255
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张泽纯
地址: 201800上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜 应力 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种薄膜应力测量装置,其特征在于该装置包括激光器(1)、供待测基片(2)设置的精密电动导轨(6)及其控制器(7)、光电位敏探测器(3)、A/D数据采集卡(4)和计算机(5),所述的激光器(1)、精密电动导轨(6)、光电位敏探测器(3)和A/D数据采集卡(4)安装在一平台(8)上,所述的激光器(1)发出的光束照射到待测基片(2)表面,在待测基片(2)的反射光束方向是光电位敏探测器(3),该光电位敏探测器(3)的输出端经所述的A/D数据采集卡(4)与所述的计算机(5)的输入端相连。

2.根据权利要求1所述的薄膜应力测量装置,其特征在于所述的激光器(1)为He-Ne激光器。

3.根据权利要求1所述的薄膜应力测量装置,其特征在于所述的A/D数据采集卡(4)具有双通道,一个用于光强信号通道,另一个用于位置信号通道。

4.根据权利要求1所述的薄膜应力测量装置,其特征在于所述的计算机(5)具有数据采集和处理程序。

5.根据权利要求1至4任一项所述的薄膜应力测量装置,其特征在于所述的平台为充气防震光学平台。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200720068607.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top