[实用新型]一种原料供给装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及化学机械研磨的晶片清洗，尤其涉及一种原料供给装置。

背景技术

如图1所示，现有技术中，与清洗装置3相连接的原料供给装置5包括两条并连的管路，一条管路是供应化学品的管路，该管路上设置一个调节钮11和与调节钮11串联的浮标式流量器13；另一条管路是供应去离子水的管路，该管路上设置一个调节钮21和与调节钮21串联的浮标式流量器23。这两条管路提供的化学品和去离子水共同汇入一条管路，并连接到清洗装置3。

调节钮11和21分别用于控制管路原料的流量，浮标式流量器13和23分别用于显示对应管路的原料流量的刻度。然而，由于在实际操作中，该原理供给装置的位置设置的偏低，而浮标式流量器13和23又是通过浮标来指明刻度，实际操作中，人员通常由于该刻度不在其视线的水平位置，从而导致刻度读取很容易出现误差。这种误差会导致化学品和去离子水的比例出现误差，如果化学品的比例过低，晶片表面清洗的不够干净，降低晶片良率；如果化学品的比例过高，显然造成了浪费并相应地提高了生产成本。

因此，现需要一种改进的原料供给装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种改进的原料供给装置，其可以准确获知原料供给量。

为实现上述目的，本实用新型提供一种原料供给装置，用于给清洗装置提供原料，其中，该装置包括一条提供化学品的管路和提供去离子水的管路，这两条管路共同连接到一条管路中以便将混合原料提供给清洗装置；该装置中还包括设置在所述两条管路上的数字流量器，用于测量流经对应管路的原料流量。

所述的两条管路均分别设有调节钮，用于调节对应管路原料流量。

所述数字流量器连接一个显示屏，显示屏可以设置在原料供给装置外部，用于显示数字流量器测量的原料流量。

与现有技术相比，本实用新型设置了数字计量器，其可以精确测量原料流量且将该原料流量转换为数字信号，显示在与其连接的显示屏上。操作员则可以精确获知化学品和去离子水的流量，可以根据制程的实际要求，精确调控流量，不仅使供给清洗装置的原料能彻底清洗晶片表面，而且还能最大程度减少原料的用量，有效节约生产成本。

附图说明

通过以下对本实用新型的一实施例结合其附图的描述，可以进一步理解其实用新型的目的、具体结构特征和优点。其中，附图为：

图1是现有技术原料供给装置的结构示意图。

图2是本实用新型原料供给装置的结构示意图。

具体实施方式

请参阅图2，本实用新型提供的一种原料供给装置1包括两个调节钮11和21，浮标式流量器13和23，数字流量器15和25以及显示屏17和27。调节钮11，浮标式流量器13及数字流量器15串联构成一条用于提供化学品的管路。调节钮21，浮标式流量器23及数字流量器25串联构成一条用于提供去离子水的管路。这两条管路共同连接到一条管路中，该管路将混合原料提供给清洗装置3。

调节钮11和21用于调节对应管路的原料的流量大小，数字流量器15和25用于测量对应管路的原料流量，并将该管路的原料流量转换为数字信号，通过显示屏17和27显示。显示屏17和27可以外接到原料供给装置1的外部。

在本实用新型较佳实施例中，数字流量器15和25是采用容积式流量器，它是以螺旋的转速，将转子转数的累计转化为原料流量的计量。在其他实施例中，也可以采用其他数字流量器。

在本实用新型较佳实施例中，为了最大程度简化改进工艺，是直接增设了两个数字流量器15和25，在本实用新型其他实施例中，也可以将浮标式流量器13和23直接拆除，而直接改用数字流量器15和25。此外，调节钮11和21可以集成到浮标式流量器11和13上，或者可以集成到数字流量器15和25。

本实用新型采用的数字计量器15和25可以精确测量原料流量且将测量结果转换为数字信号，并显示在与其连接的显示屏上。操作员则可以精确获知化学品和去离子水的流量，可以根据制程的实际要求，精确调控流量，不仅使供给清洗装置的原料能彻底清洗晶片表面，而且还能最大程度减少原料的用量，有效节约生产成本。