[实用新型]化学机械研磨机台排放管

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种化学机械研磨机台排放管。

背景技术

集成电路制程中，化学机械研磨(CMP)机台内通常包含反应发生前引入的反应气体及反应后形成的反应副产物，所述反应副产物包含废气及废液。实践中，反应完成后，所述反应副产物需进行废气及废液处理，处理后的废气及废液方可排放至外界。在进行废气及废液处理之前，所述反应副产物需经由排放管由CMP机台排出。

当前，对于CMP机台，如图1所示，所述排放管与化学机械研磨机台20相连，所述排放管包含主排放管30、排液管50及排气管40；所述主排放管30包括引入端32、液输出端36和气输出端34，所述引入端32与化学机械研磨机台20相连；所述液输出端36与所述排液管50相连；所述气输出端34位于所述引入端32和所述液输出端36之间；所述气输出端34与所述排气管40相连。实践中，执行CMP操作后排放的废液经由主排放管30由排液管50排放；执行CMP操作后排放的废气经由主排放管30由排气管40排放。

然而，如图2所示，实际生产发现，所述排气管40内易形成沉积物，所述沉积物易在所述排气管内形成腐蚀区42，为保证排气管以及化学机械研磨机台的正常工作，需对排气管做定期更换，降低了化学机械研磨机台的使用效率。如何减少所述排气管内沉积物的形成，以减少所述排气管内腐蚀区的形成，并延长所述排气管的使用寿命成为本领域技术人员亟待解决的问题。

2005年10月19日公开的公告号为“CN1223703C”的中国专利中提供了一种具有反应副产物沉积防止装置的排气管和沉积防止方法，提供的排气管，具有防止包含在从反应真空室等排气用排气管中的物质在排气管内表面上沉积堆积的效果。如图3所示，所述排气管10包含：有排放通路14的内筒11、在其外侧存在空隙15而设置的外筒12、和附接到内筒11上的加热装置13，空隙15和上述排放通路10’连通。在排气时，不仅排放通路10’变成真空状态而且空隙15也变成真空状态，可抑制从加热装置向外部放热，可有效加热内筒11至高温，从而可防止包含在排气中的物质沉积堆积在内筒11的内表面上。该方法强调了内筒11需维持高温状态，以防止排气中的反应副产物冻结堆积在内筒11内表面。但是，在有废液存在的条件下，内筒具有的高温易造成废液在所述内筒内表面的固化，仍利于造成排气管内沉积物的堆积。

2006年8月23日公开的公开号为“CN1821441”的中国专利申请中提供了一种具有反应副产物沉积防止装置的排气管和沉积防止方法，提供的排气管，具有防止包含在从反应真空室等排气用排气管中的物质在排气管内表面上沉积堆积的效果。所述排气管包括：在内部有排放通路的内筒，设置在该内筒外侧的外筒；在内筒和外筒之间形成的密闭空间；以及在外筒中设置的用于将液氮等极低温冷却介质导入上述密封空间以形成冻结膜的冷却介质导入口。显然，此液氮等极低温冷却介质仅为将反应副产物形成冻结膜，以在后续步骤中通过整体去除所述冻结膜而减少反应副产物对排气管造成的污染。而如何去除所述冻结膜还需采用附加的工艺，程序复杂。

实用新型内容

本实用新型提供了一种化学机械研磨机台排放管，可减少所述排放管中包含的所述排气管内沉积物的产生，进而可减少所述排气管内腐蚀区的形成，并延长所述排气管的使用寿命。

本实用新型提供的一种化学机械研磨机台排放管，包含主排放管、排液管及排气管；所述主排放管包含具有排放通路的内筒和连接于内筒且与内筒间具有空隙的外筒，所述空隙与所述排放通路连通；所述排液管及排气管分别连接于所述外筒。

可选地，所述内筒还包括引入端和第一液输出端，所述内筒通过所述引入端与化学机械研磨机台相连，所述第一液输出端与所述空隙连通；可选地，所述外筒还包括连接端、第二液输出端和气输出端，所述外筒通过所述连接端与所述内筒相连，所述第二液输出端位于所述外筒的底部或所述外筒的侧壁的底部，所述第二液输出端与所述排液管相连；可选地，所述气输出端位于所述连接端和所述第二液输出端之间，所述气输出端与所述排气管相连；可选地，所述内筒上具有冷却装置；可选地，所述内筒与所述外筒间传热连接；可选地，所述外筒上具有冷却装置；可选地，所述冷却装置中以液氮作为冷却介质；可选地，所述排气管外具有加热装置；可选地，所述加热装置为利用电加热的加热器或利用有加热的加热器。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：