[实用新型]斐索干涉仪检测工作台

说明书

所属技术领域

本实用新型涉及一种光学元件的检测设备，尤其是检测平面光学元件面形的斐索干涉仪的配套设备，属于光学检测和机械领域。

背景技术

目前，斐索干涉仪作为平面光学元件表面面形的检测设备，在平面光学元件的生产过程中承担着极为重要的检验任务，特别是在大尺寸高精度光学工件的检测中尤其如此。由于检测精度要求高，被测工件在运送、装夹、擦洗过程受到挤压、震动、人体接触等使得工件受力或温度场的变化会明显影响其面形的检测结果，因此工件在检测前需要恒温等待一段时间使其面形达到稳定后再进行检测。现有的检测方法是将工件装调后直接在干涉仪检测位进行恒温等待，并且一次只能放置一个工件。恒温等待过程一般需要2～8小时，特殊情况需要近24小时，但实际有效的检测时间只需要几分钟至十几分钟，检测过程中的大部分时间都用于恒温等待，致使干涉仪的检测效率大大降低，从而限制了平面光学元件的生产效率。

实用新型内容

为了克服现有的大口径平面光学工件面形检测效率低的缺陷，本实用新型提供一种可大大提高检测效率的斐索干涉仪检测工作台。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：斐索干涉仪检测工作台，包括承载台1、工件支架2和检测底座3，承载台1上设有导轨1-2，工件支架2的底部设有滑动滚珠2-7，检测底座3的一端设有插槽3-1，承载台1与检测底座3连接处设有插头1-5。

本实用新型实现了斐索干涉仪检测平面光学元件面形时恒温等待过程和检测过程的分离，具有安全装夹、多向位移、精密调节的特点。待检工件安全装夹在工作台上进行检测前恒温等待，而不占用干涉仪的检测位，工作台提供多工位，可同时静置多个工件。达到恒温要求后，通过工作台位移导轨可将装夹工件平稳移动至干涉仪检测位，并通过检测底座精密调节工件空间位置达到检测要求。

本实用新型的有益效果是，恒温等待过程和检测过程分离，多工位设计缩短了干涉仪的检测周期，大大提高了干涉仪的检测效率，实现了工件的连续检测，较原始的检测效率提高了4～5倍，从而也大大提高了精密光学元件的生产效率。

附图说明

图1是本实用新型总体结构示意图；

图2是图1的A-A剖面图；

图3是本实用新型工件支架主视图；

图4是本实用新型工件支架左视图；

图5是本实用新型工件支架仰视图；

图6是本实用新型工件支架底板部分主视图；

图7是本实用新型工件支架底板部分俯视图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

斐索干涉仪检测工作台，包括承载台1、工件支架2和检测底座3，承载台1上设有导轨1-2，工件支架2的底部设有滑动滚珠2-7，检测底座3的一端设有插槽3-1，承载台1与检测底座3连接处设有插头1-5。

如图1、2，承载台1上安装有导轨板1-1，上面设有导轨1-2，承载台1上面可放置多个工件支架2，每个工件支架2上夹装一个工件5，工件支架2底部的滑动滚珠2-7在导轨1-2中可平稳滑动，工件5在达到恒温状态时，推动工件支架2沿着承载台1的长度方向移动，到导轨1-2的交点处时，沿承载台1的宽度方向移动，此时推动检测底座3向承载台1靠近(图1中箭头表示)，承载台1的插头1-5插入检测底座3的插槽3-1中，此时两者相接并在同一平面，再推动工件支架2到检测底座3上，推动检测底座3到检测位(图1中虚线位置)并固定。本实用新型实现了用斐索干涉仪检测平面光学元件面形时恒温等待过程和检测过程的分离。

承载台2两外侧边缘设有限位条1-3、1-4，防止工件支架2脱轨滑向工作台两侧边缘，限位条1-4上设有锁定旋钮1-6，左、右两端的锁定旋钮1-6阻止工件支架2滑向工作台的两端边缘，中间的锁定旋钮1-6可将工件支架2锁定在任意位置。

工作台可以同时放置8个工件支架2，可在任意位置将其夹紧锁定；移动过程可控，工件不倾斜、摇晃、碰撞；承载设计满足装载工件的最大负荷要求，承重＞0.5T；导轨1-2为L形，节省检测空间，上下台方便、可靠，易于操作、调节；承载台1具有很好的稳定性，不滑动、不倾倒、不变形。