[实用新型]载盘的改良结构无效

专利信息
申请号: 200720125504.1 申请日: 2007-08-17
公开(公告)号: CN201142322Y 公开(公告)日: 2008-10-29
发明(设计)人: 刘相贤;刘奎江;刘聪德;江丰全 申请(专利权)人: 力鼎精密股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;C23C16/458;C23C14/50
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 陈肖梅;谢丽娜
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 改良 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种载盘的改良结构,特别是有关于一种适用于晶圆制程,具有操作维护简易、低成本、以及晶圆高冷却效率的载盘的改良结构。

背景技术

一般而言,半导体制程如沉积或蚀刻等制程常造成晶圆处于高温状态,故晶圆散热为晶圆载盘设计的重要考虑因素之一。如图1所示的现有晶圆载盘10,其中包括上盖11、导热层12、封板13、真空隔热件14、冷却回路15、以及多个冷却管路16。冷却回路15设置于封板13与真空隔热件14所围成的封闭空间内,冷却流体(图式未显示)经由多个冷却管路16以连接冷却回路15达到一连续冷却流的效果。真空隔热件14包括一真空隔热区141,此真空隔热区141借助多个接头142(图式仅显示一接头)以抽取真空隔热区141内的空气,以达到隔热以加强晶圆A的冷却效果。然而,此装置的设置与操作十分繁琐,例如多个冷却管路16需外接冷却流体的馈送装置外,还需配置抽气机以控制真空隔热区141内中空气密度。此外,导热层12也会随着热涨冷缩的次数增加而降低热传导效果,导致增加维护成本、降低冷却效率、与可能的操作失误。

因此,提供一操作维护简易、低成本、以及晶圆高冷却效率的载盘,便成为晶圆制程的重要课题之一。

发明内容

有鉴于此,本实用新型的目的在于克服现有技术的不足与缺陷,提出一种载盘的改良结构,特别是一种适用于晶圆制程,具有操作维护简易、低成本、以及晶圆高冷却效率的载盘的改良结构。

为达上述目的,本实用新型提供一种载盘的改良结构,包括:一上盖,具有一内凹区与一螺旋状凸肋组,该螺旋状凸肋组设置于该内凹区中;一下盖,具有一顶面与一侧面,该顶面连接于该螺旋状凸肋组的多个凸肋顶部,而该侧面连接于该内凹区的一侧壁;一冷却流道,设置于该内凹区、该螺旋状凸肋组、与该顶面所围成的封闭空间中;以及多个流道出入口,连接于该冷却流道,而其中一冷却流体经由所述的流道出入口进出该冷却流道,以形成一连续冷却流。

本实用新型具有以下有益技术效果:本实用新型适用于晶圆制程,具有操作维护简易、低成本、以及晶圆高冷却效率的优点。

本实用新型中所叙述的载盘的改良结构,可用于晶圆沉积与蚀刻等制程中。

附图说明

图1为现有载盘示意图;

图2A为载盘的改良结构的剖面图;

图2B为上盖示意图。

图中符号说明

10  现有晶圆载盘     11   上盖

12  导热层           13   封板

14  真空隔热件       141  真空隔热区

142 多个接头         15   冷却回路

16  多个冷却管路     A    晶圆

20  载盘             21   上盖

211 内凹区           2111 侧壁

212 螺旋状凸肋组     2121 多个凸肋顶部

22  下盖             221 顶面

222 侧面             223 多个螺丝孔

23  冷却流道         24  多个流道出口。

具体实施方式

以下以具体的实施例,对本实用新型揭示的各形态内容加以详细说明。

参照图2A,图2A为根据本实用新型所提供的一种载盘的改良结构的剖面示意图,其中包括一载盘20,此载盘20包括一上盖21、一下盖22、一冷却流道23、以及多个流道出口24。上盖21具有一内凹区211与一螺旋状凸肋组212(参考图2B,其中螺旋状凸肋组212环绕于内凹区211内成一环状螺旋状的几何外形)。下盖22具有一顶面221与一侧面222,此顶面221连接于螺旋状凸肋组212的多个凸肋顶部2121,而侧面222连接于内凹区211的一侧壁2111。冷却流道23设置于内凹区211、螺旋状凸肋组212、与顶面221所围成的封闭空间中。多个流道出入口24,连接于冷却流道23,而其中一冷却流体(图式未显示)经由多个流道出入口24进出冷却流道23以形成一连续冷却流。

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