[实用新型]一种真空对盒设备中的静电吸附板及真空对盒设备无效
申请号: | 200720149139.8 | 申请日: | 2007-05-15 |
公开(公告)号: | CN201072478Y | 公开(公告)日: | 2008-06-11 |
发明(设计)人: | 朱海波 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;B25B11/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 设备 中的 静电 吸附 | ||
1.一种真空对盒设备中的静电吸附板,包括:金属基台,依次形成在金属基台一面上的基材层、电极层和保护层,其特征在于:所述金属基台的另一面上形成有磁力层。
2.根据权利要求1所述的真空对盒设备中的静电吸附板,其特征在于:所述金属基台的材料为Al。
3.根据权利要求1所述的真空对盒设备中的静电吸附板,其特征在于:所述磁力层的材料为Fe3O4。
4.一种真空对盒设备,其特征在于,包括:上基台和相对设置的下基台,设置在上基台和下基台相对面上的多个静电吸附板,所述上基台上的静电吸附板包括:金属基台,依次形成在金属基台一面上的基材层、电极层和保护层及在金属基台的另一面上形成有磁力层。
5.根据权利要求4所述的真空对盒设备,其特征在于:所述金属基台的材料为Al。
6.根据权利要求4所述的真空对盒设备,其特征在于:所述磁力层的材料为Fe3O4。
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