[实用新型]一种ITO薄膜激光蚀刻机

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及激光切割技术领域，尤其涉及一种ITO薄膜激光蚀刻机。

【背景技术】

ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，此膜镀在菲林或玻璃基板上。镀有ITO薄膜的基材刻线后由上层与下层线路组成，各自布线X轴与Y轴，两层线路中间由极小的绝缘点支撑作为隔层，目前可做到最小的绝缘点是Φ0.035mm，经组装贴合后，改变其面上某点电压值且产生信号，经由控制器计算，控制相对坐标位置特定点状态或取用信号，可实现使用于触摸屏、液晶显示屏等产品上。

随着触摸屏及液晶显示屏行业的不断发展，对ITO薄膜基材性能需求的不断提高，对ITO薄膜的加工方式也出现了改变，现有技术中由于加工设备结构布局问题，导致对ITO薄膜的加工效率低，采用传统的电机进行平台移动，无法保证加工的线性。

【实用新型内容】

本实用新型要解决的技术问题是提供一种刻线效率高、线性好的ITO薄膜激光蚀刻机。

本实用新型所采用的技术方案是：

一种ITO薄膜激光蚀刻机，包括机架、工控机、显示系统、激光发生器、切割头、吸附盘、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统，所述工控机、激光发生器、显示系统和Z轴运动系统都安装在机架上，所述切割头安装在Z轴运动系统上，所述吸附盘固定在X轴运动系统上，位于Y轴运动系统的上方，所述X轴运动系统安装在Y轴运动系统上，并交叉呈十字状，Y轴运动系统固定安装在机架上。

所述的一种ITO薄膜激光蚀刻机，还包括安装在X轴运动系统侧面的第一光学栅尺及第一读数器，以及安装在Y轴运动系统侧面的第二光学栅尺及第二读数器。

所述的一种ITO薄膜激光蚀刻机，还包括安装在X轴运动系统内的第一直线电机，以及安装在Y轴运动系统内的第二直线电机。

所述吸附盘的内部为空腔，其盘面设置阵列有多个与空腔连通的小孔。

所述吸附盘的侧面开有多个通孔，其中，至少一个通孔作为吸附口与所述空腔相通，并连接真空装置或抽风装置；至少一个通孔作为进气口与空腔相通，并连接吹气装置。

所述作为吸附口的通孔及作为进气口的通孔安装有一使吸气及进气错开动作的阀门装置。

所述切割头包括使激光聚焦成能量集中的小光点，以作用在ITO薄膜上激光聚焦镜组、连接压缩气体的吹气部件及连接吸气系统吸尘部件，所述聚焦镜组、吹气部件和吸尘部件同轴设置。

所述的一种ITO薄膜激光蚀刻机，还包括安装在机架上方的风机过滤单元，其风口对准吸附盘与切割头的交汇处。

所述激光发生器为波长是1064nm、532nm或355nm的固体(YAG)激光发生器。

所述的一种ITO薄膜激光蚀刻机，还包括安装在机架上自动门及保护装置，其位于吸附盘前方，与所述机架前挡板并排布置。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型采用线性电机及光学栅尺读数，从而保证了ITO薄膜的刻线精度及速度；X轴运动系统和Y轴运动系统采用十字结构安装，使工作平台能够快速移动到预定位置，提高效率；工作平台采用吸附盘，在刻线过程中ITO薄膜始终吸附在吸附盘上，吸附盘上还设置了吹气浮起装置，在刻线结束时关闭吸气同时吹气将ITO薄膜鼓吹浮起，使ITO薄膜容易从吸附盘上取下；激光产生器采用固体(YAG)激光器，所用激光几乎仅对ITO薄膜作用，有效保护基板材料，不影响基材透明度；机架上安装有自动门，在工作状态时自动门关闭，从而保证了操作者的安全；基于上述方案，本实用新型提高了ITO薄膜刻线效率、提高寿命、成本降低、直线性更好、可视区域加大，不使用化学试剂，符合环保要求。

【附图说明】

下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步的描述。

图1是本实用新型蚀刻机的结构示意图。

图2是本实用新型蚀刻机的侧面示意图。

图3是图1中A部分的放大示意图。

【具体实施方式】

如图1至图3所示，本实用新型的激光蚀刻机包括地脚支撑调整螺栓1、工控机2、键盘鼠标抽拉盒3、显示系统4、机架5、激光发生器6、风机过滤单元(FFU)7、Z轴运动系统8、切割头9、吸附盘10、X轴运动系统11、Y轴运动系统12、防尘罩13、电气控制柜14、线性电机15、防震垫铁16、滑动轮17、红光电感装置18、自动门保护装置19、汽缸轴20、脚轮21；