[实用新型]掩膜盒与掩膜传送盒及其支撑件有效
申请号: | 200720177504.6 | 申请日: | 2007-09-30 |
公开(公告)号: | CN201091030Y | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 王建峰 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;G03F7/20;G03F1/00;H05F3/02;B65D81/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜盒 传送 及其 支撑 | ||
1.一种掩膜盒,其特征在于,该掩膜盒包括:
一第一盖体;以及
一第二盖体,与第一盖体组合形成一内部空间,可容置至少一掩膜;
其中,该第一以及第二盖体至少其中之一具有一本体,该本体面对该内部空间的表面上设有多数个支撑件或限制件,该支撑件或限制件材质为静电消散材。
2.如权利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,其中该静电消散材质电阻值为104-1011Ω。
3.如权利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,其中该些支撑件及限制件为不同材质所构成。
4.如权利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,其中该些支撑件及限制件为相同材质所构成。
5.如权利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,其中该本体面对该内部空间的表面上设有一导电板,该支撑件设于该导电板上与该导电板电性连接。
6.如权利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,其中该第一盖体或第二盖体为金属材质。
7.如权利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,其中该支撑件的结构包括:
一平面衬底连接一第一斜面且该第一斜面再连接一第二斜面以形成一整体结构,且于该整体结构的两侧周边区域即设二个第一开口,其中每一该第一开口中配置一上固定组件及一下固定组件。
8.如权利要求1所述的掩膜盒,其特征在于,其中该支撑件的结构包括:
一座体,以多数个支撑点固接于该掩膜传送盒上盖体内各角落的位置;以及
一弯曲弹性组件,其一弯曲的端部结合于该座体上,另一弯曲的端部则呈弹性悬浮状态于该多数个支撑点之间,且进一步包括一顶持面及一扣压面;
其中,当该掩膜传送盒的盖合一掩膜时,该弯曲弹性组件的该顶持面及该扣压面与该掩膜接触并固定之。
9.一种掩膜传送盒,其特征在于,该掩膜传送盒包括:
一顶盖;以及
一基座,与顶盖组合形成一内部空间,可容置至少一掩膜,该基座面对该内部空间的表面上设有多数个支撑件,该支撑件材质为静电消散材。
10.一种掩膜盒,其特征在于,该掩膜盒包括:
一第一盖体;
一第二盖体,与第一盖体组合形成一内部空间,可容置至少一掩膜,且该第一以及第二盖体至少其中之一具有一本体;
多数个限制件,设置于该本体面对内部空间的表面上;以及
多数个支撑件,设置于该本体面对内部空间的表面上,且其材质为静电消散材;
其中该多数个限制件与该多数个支撑件使用多成份射出成型方法结合。
11.一种掩膜传送盒,其特征在于,该掩膜传送盒包括:
一顶盖;
一基座,与顶盖组合形成一内部空间,可容置至少一掩膜,且该顶盖以及基座至少其中之一具有一本体;
多数个限制件,设置于该本体面对内部空间的表面上;以及
多数个支撑件,设置于该本体面对内部空间的表面上,且其材质为静电消散材;
其中该多数个限制件与该多数个支撑件使用多成份射出成型方法结合。
12.一种支撑件,其特征在于,该支撑件包括:
一平面衬底连接一第一斜面且该第一斜面再连接一第二斜面以形成一整体结构,且于该整体结构的两侧周边区域即设二个第一开口,并于每一该第一开口中配置一上固定组件及一下固定组件,其中该支撑件的材质部份或全部为静电消散材。
13.一种支撑件,其特征在于,该支撑件包括:
一座体,是以多数个支撑点固接于该掩膜传送盒上盖体内各角落的位置;
一弯曲弹性组件,其一弯曲的端部结合于该座体上,另一弯曲的端部则呈弹性悬浮状态于该多数个支撑点之间,且进一步包括一顶持面及一扣压面;
其中,当该掩膜传送盒的盖合一掩膜时,该弯曲弹性组件的该顶持面及该扣压面与该掩膜接触并固定之,且该支撑件的材质部份或全部为静电消散材。
14.如权利要求12或13所述的支撑件,其特征在于,其中该静电消散材质电阻值为104-1011Ω。
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