[实用新型]用以存放半导体组件或光罩的存放装置及其过滤装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用以存放半导体组件或光罩的存放装置，特别是有关于一种具有过滤装置的用以存放半导体组件或光罩的存放装置。

背景技术

近代半导体科技发展迅速，其中光学微影技术(Optical Lithography)扮演重要的角色，只要是关于图形pattern定义，皆需依赖光学微影技术。光学微影技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩。利用曝光原理，则光源通过光罩投影至硅晶圆siliconwafer可曝光显示特定图案。然而，由于任何附着于光罩或半导体组件上的尘埃颗粒如微粒、粉尘或有机物都会造成投影成像的质量劣化，用于产生图形的光罩必须保持绝对洁净，而被投射的硅晶圆或者其它半导体组件投射体亦必须保持绝对清静，因此在一般的晶圆制程中，都提供无尘室clean room的环境以避免空气中的颗粒污染。然而，目前的无尘室也无法达到绝对无尘状态。

因此，现代的半导体制程皆利用抗污染的光罩存放装置进行光罩的保存与运输，以使光罩保持洁净；也利用抗污染的半导体组件存放装置进行半导体组件的保存与运输，以使半导体组件保持洁净。光罩存放装置是在半导体制程中用于存放光罩，以利光罩在机台之间的搬运与传送，并隔绝光罩与大气的接触，避免光罩被杂质污染而产生变化；而半导体组件存放装置是在半导体制程中用于存放半导体组件，以利半导体组件在机台之间的搬运与传送，并隔绝半导体组件与大气的接触，避免半导体组件被杂质污染而产生变化。因此，在先进的半导体厂中，通常会要求该种用以存放半导体组件或光罩的存放装置的洁净度要符合机械标准接口StandardMechanical Interface；SMIF，也就是说保持洁净度在Class 1以下。故，在用以存放半导体组件或光罩的存放装置中充入气体便是目前解决的手段之一。

然而，为了进一步提升产品的良率及降低制造的成本，除了达到洁净度的标准要求之外，还要克服因为外来气体对于光罩的污染。这样的外来气体除了大气以外，还有两个来源，其一是源自于高分子材料所制成的放装置本身所释出的气体outgasing，其二是源自于残留在光罩或半导体组件表面的微量化学溶液所产生的挥发气体。这些非期望气体会对光罩或半导体组件的表面产生雾化作用，使得光罩或半导体组件无法再使用而必须报废的窘境，使得制造成本增加。在存放装置中充入气体是目前解决光罩或半导体雾化的手段之一，其中如何保持充入气体的洁净度，是一个重要的议题。

有鉴于此，本实用新型所提供的具有过滤装置的用以存放半导体组件或光罩的存放装置，乃针对现有加以改良。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种具有过滤装置的用以存放半导体组件或光罩的存放装置，可用来过滤空气中的微尘，以避免光罩或半导体组件受到污染。

为解决现有的问题，本实用新型提供一种具有过滤装置的用以存放半导体组件或光罩的存放装置。此种存放装置是由第一盖体与第二盖体组合而成，形成一内部空间可容纳光罩或半导体组件，此种存放装置的第二盖体设有至少一孔，用以连通用该存放装置的内部空间以及外部空间，以及一过滤装置置于该孔。该过滤装置是由过滤件以及固定件所构成。根据本发明一较佳实施例，该过滤装置可再包含第一部分、第二部分、固定件与过滤件，其中该第一部分具有通孔与卡制机构，第二部分具有通孔与啮合机构，过滤件置于第一部分或第二部分上，并且由固定件固定过滤件。

本实用新型的再一目的在于提供一种具有过滤装置的用以存放半导体组件或光罩的存放装置，可用来过滤空气中的微尘，以保持该用以存放半导体组件或光罩的存放装置内的洁净度。

本实用新型的有益效果是，所提供的用以存放半导体组件或光罩的存放装置及其过滤装置，可用来过滤空气中的微尘，以避免光罩或半导体组件受到污染。

附图说明

图1：本实用新型用以存放半导体组件或光罩的存放装置的示意图；

图2A至图2D：本实用新型用以存放半导体组件或光罩的存放装置设置过滤件与固定件的示意图；

图3A至图3D：本实用新型用以存放半导体组件或光罩的存放装置与过滤件及固定件的设置示意图；

图4A至图4C：本实用新型用以存放半导体组件或光罩的存放装置中固定件与过滤件的关是示意图；

图5A至图5D：本实用新型用以存放半导体组件或光罩的存放装置与过滤装置配置示意图；

图6：本实用新型过滤装置的分解图；

图7A至图7F：本实用新型过滤装置中固定件与过滤件的示意图；