[发明专利]真空处理装置和真空处理方法无效
申请号: | 200780000117.8 | 申请日: | 2007-01-11 |
公开(公告)号: | CN101310041A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 近藤昌树;林辉幸;齐藤美佐子 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;H01L21/02;H01L21/027;H01L21/205;H01L21/304;H01L21/3065 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 处理 装置 方法 | ||
1.一种真空处理装置,其特征在于,具有:
真空搬送室,其室内被保持为减压状态,设置有在室内与邻室之间进行被处理体的搬送的搬送机构;
真空处理室,其与所述真空搬送室邻接设置,在减压下的室内对被处理体进行规定的处理;
对所述真空搬送室进行真空排气的排气部;
将吹扫气体供给所述真空搬送室的吹扫气体供给部;和
控制部,其在监视所述真空搬送室内的压力的同时控制由所述吹扫气体供给部供给所述真空搬送室的所述吹扫气体的流量,使得所述真空搬送室内的压力不偏离规定的压力范围。
2.根据权利要求1所述的真空处理装置,其特征在于:
所述压力上限值设定为66.7Pa(500mTorr)以下的值,所述吹扫气体的流量控制为10sccm以上的设定值。
3.根据权利要求1所述的真空处理装置,其特征在于,具有:
负载锁定室,其与所述真空搬送室邻接设置,室内能够选择性地切换为大气状态或减压状态,暂时地留置在大气空间与所述真空搬送室之间搬送的被处理体。
4.根据权利要求1所述的真空处理装置,其特征在于:
所述真空搬送室是在室内设置有搬送机构、室内能够选择性地切换为大气状态或减压状态的负载锁定室。
5.一种真空处理装置,其特征在于,具有:
真空搬送室,其室内被保持为减压状态,设置有在室内与邻室之间进行被处理体的搬送的搬送机构;
真空处理室,其与所述真空搬送室邻接设置,在减压下的室内对被处理体进行规定的处理;
负载锁定室,其与所述真空搬送室邻接设置,室内能够选择性地切换为大气状态或减压状态,暂时地留置在大气空间与所述真空搬送室之间搬送的被处理体;
对所述负载锁定室进行真空排气的排气部;
将吹扫气体供给所述负载锁定室的吹扫气体供给部;和
控制部,其在监视所述负载锁定室内的压力的同时控制由所述吹扫气体供给部供给所述负载锁定室的所述吹扫气体的流量,使得所述负载锁定室内的压力不偏离规定的压力范围。
6.根据权利要求5所述的真空处理装置,其特征在于:
所述压力上限值设定为66.7Pa(500mTorr)以下的值,所述吹扫气体的流量控制为10sccm以上的设定值。
7.根据权利要求5所述的真空处理装置,其特征在于:
所述负载锁定室内的压力比所述真空搬送室内的压力高。
8.一种真空处理装置,其特征在于,具有:
真空搬送室,其室内被保持为减压状态,设置有在室内与邻室之间进行被处理体的搬送的搬送机构;
真空处理室,其与所述真空搬送室邻接设置,在减压下的室内对被处理体进行规定的处理;
对所述真空搬送室进行真空排气的排气部;
将吹扫气体供给所述真空搬送室的吹扫气体供给部;和
控制部,其在监视由所述吹扫气体供给部供给所述真空搬送室的所述吹扫气体的流量的同时控制所述真空搬送室内的压力,使得所述流量不小于规定的流量下限值。
9.根据权利要求8所述的真空处理装置,其特征在于:
所述流量下限值设定为10sccm以上的值,所述真空搬送室内的压力控制为66.7Pa(500mTorr)以下的设定值。
10.根据权利要求8所述的真空处理装置,其特征在于,具有:
负载锁定室,其与所述真空搬送室邻接设置,室内能够选择性地切换为大气状态或减压状态,暂时地留置在大气空间与所述真空搬送室之间搬送的被处理体。
11.根据权利要求8所述的真空处理装置,其特征在于:
所述真空搬送室是在室内设置有搬送机构、室内能够选择性地切换为大气状态或减压状态的负载锁定室。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的