[发明专利]台架装置有效
申请号: | 200780000636.4 | 申请日: | 2007-02-23 |
公开(公告)号: | CN101326626A | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
发明(设计)人: | 田中保三;汤山纯平;矢作充;南展史 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;B23Q1/01 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 何腾云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 台架 装置 | ||
1.一种台架装置,其用于进行被处理基板的处理或检查;其特征在于,具备:
基板支承面,该基板支承面对所述被处理基板进行支承;
基板处理单元,该基板处理单元对支承在所述基板支承面上的被处理基板进行处理或检查;
门形架,该门形架支承所述基板处理单元,并且可在支承于所述基板支承面的被处理基板之上自由移动;
一对引导部,该一对引导部分别具有第1引导部和第2引导部,其中,所述第1引导部夹着所述基板支承面地相向配置,形成由所述基板处理单元进行基板处理时所需的所述门形架的作业区域的移动路径,而所述第2引导部可沿该第1引导部的延伸方向相对于所述第1引导部自由分离地连接,形成所述门形架的非作业区域的移动路径;
主架,该主架支承所述第1引导部;以及
副架,该副架支承所述第2引导部,并且可自如地与所述主架分离。
2.如权利要求1所述的台架装置,其特征在于,与所述副架相比,所述主架的所述门形架的移送精度设计得高。
3.如权利要求1所述的台架装置,其特征在于,所述第1引导部以及所述第2引导部分别包括引导所述门形架直行移动的线性引导件;
所述各线性引导件在不同于所述主架和所述副架的分割位置的位置上接合。
4.如权利要求1所述的台架装置,其特征在于,所述基板处理单元可沿着该门形架的延伸方向自由移动地支承在所述门形架上。
5.一种台架装置,其用于进行被处理基板的处理或检查;其特征在于,具备:
第1架部,该第1架部载置所述被处理基板;
第2架部,该第2架部构成为能够相对于所述第1架部分离而进行运输;
门形架,该门形架在所述被处理基板之上移动;
第1引导部,该第1引导部在长度方向上呈一体,设置在所述第1架部上,包含所述门形架在所述被处理基板上移动时进行引导的部分;以及
第2引导部,该第2引导部以与所述第1引导部敷设在同一轴线上的方式设置在所述第2架部上,不包含所述门形架在所述被处理基板上移动时进行引导的部分。
6.如权利要求5所述的台架装置,其特征在于,所述第1架部的所述门形架的移送精度比所述第2架部高。
7.如权利要求5所述的台架装置,其特征在于,所述第1引导部具有从所述第1架部突出的部分,该突出的所述第1引导部的部分固定在所述第2架部上,所述第1引导部和所述第2引导部构成连续的引导部。
8.如权利要求5所述的台架装置,其特征在于,所述第1架部和所述第2架部的相接面相对于所述门形架的移动方向倾斜地形成。
9.如权利要求5所述的台架装置,其特征在于,还具备:
第1线性标尺,该第1线性标尺设置在所述第1架部上;
第2线性标尺,该第2线性标尺设置在所述第2架部上;以及
至少两个线性标尺检测部,所述线性标尺检测部设置在所述门形架上,在所述门形架通过所述第1架部和所述第2架部的连接部时,利用所述第1线性标尺检测所述门形架的位置,而且利用所述第2标尺检测所述门形架的位置,由此进行所述连接部的位置修正。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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