[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及为了制造例如光盘那样的平板状记录介质、而对成型的基板进行处理的基板处理装置。

背景技术

光盘或磁光盘等的光学读取式的圆盘形记录介质不仅专门用于播放，也可广泛用于改写所记录的信息。为了保护形成在基板上的记录面或通过记录面的多层化实现高密度记录，通过相互粘合基板来制造该记录介质。

例如如下所述地制造这样的记录介质。即，对两张聚碳酸酯制的基板进行注射模塑成型，在溅射室通过喷溅形成金属膜。然后通过旋转涂敷将紫外线硬化型的粘合剂涂敷在两张基板的接合面上。将涂敷了粘合剂的一对基板插入真空室，在真空中粘合相互的粘合剂面。将相互粘合后的基板从真空室中取出到大气压下，通过向其照射紫外线使粘合剂硬化。通过这样将两张基板牢固地粘合，完成光盘。

但是，如果在粘合前的基板上存在弯曲或变形等，则如上所述地制造的光盘的粘合层的厚度等将不均匀，在用于读写信息的激光照射在光盘上时，有可能不能准确地到达记录面的规定位置。因此，在该光盘用的基板上，排除成形后产生的弯曲或变形对于确保产品稳定的质量是非常重要的。

例如，连续注射模塑成型的基板在刚成型后温度高、容易变形。因此，在之后的工序中在利用旋转涂敷形成粘合层时，通过放置基板等隔一段时间后进行处理来抑制变形。但是，由于各基板的温度不同，因此不能得到最适当的放置时间，由此导致最终产品的成品率下降。

为了解决该问题，提出了如专利文献1所述的通过鼓风强制冷却多个基板的技术、和如专利文献2所述的一面旋转基板一面鼓风进行高效率冷却的技术。

专利文献1：特开2000-137931号公报

专利文献2：特开平5-109126号公报

但是，在只利用鼓风的冷却中，空气不能均匀地碰到各基板，结果产生温度的不均匀。并且，在使基板本身旋转的方式中，由于离心作用或中心振摆，向基板施加过度的力，有可能产生变形，因此影响倾斜(チルト)。

本发明就是为了解决上述现有的技术问题而提出的方案，其目的是提供一种不受放置时间的左右、不向基板施加过度的力就可进行均匀处理的基板处理装置。

发明内容

为了实现上述目的，本发明的基板处理装置，具有保持基板的保持部以及设置在基板的附近的整流部，所述基板由所述保持部保持，其特征在于，所述整流部具有：至少与基板的一方的面接近、相对的相对部；和导入部，该导入部将处理用介质导入由所述保持部以不旋转的方式保持的所述基板和所述相对部之间。

在上述的发明中，从导入部导入的介质向被保持成不旋转的基板和与其接近的相对部之间流通，由此可高效率地对基板进行均匀的处理。

其它方式的特征是，所述整流部具有使所述相对部旋转的驱动部。

在以上的方式中，通过使相对部旋转，可使处理用介质均匀地遍布基板的表面。

其它方式的特征是，在所述相对部上形成隆起部或槽部。

在以上的方式中，通过相对部的隆起部或槽部，可促进介质的流动、进行高效率的处理。

其它方式的特征是，所述相对部设置在基板的两面侧。

在以上的方式中，通过从基板的两面侧进行处理，可以以更短的时间进行均匀的处理。

其它方式的特征是，在所述相对部上设置在基板的周缘附近与基板的间隔变窄的突出部。

在以上的方式中，流入相对部和基板之间的介质在因突出部而与基板的间隔变窄的部位流速提高，因此可加速处理。

其它方式的特征是，在所述整流部设置冷却所述相对部的冷却装置。

在以上的方式中由于冷却相对部，因此冷却性能提高，同时，可进行进一步均匀的冷却。

其它方式的特征是，在所述整流部设置加热所述相对部的加热装置。

在以上的方式中，由于加热相对部，因此，加热性能提高，同时，可进行进一步均匀的加热。尤其是在使基板上的涂敷物干燥时等，既可防止基板的变形又可进行均匀的处理，可缩短干燥时间。

如上所述，根据本发明，可提供不受放置时间的左右、不向基板施加过度的力就可进行均匀处理的基板处理装置。

附图说明

图1是表示本发明的一个实施方式的纵剖视图。

图2是表示图1的实施方式的相对部的仰视图。

图3是表示图1的实施方式的冷却室的设置例的纵剖视图。

图4是表示本发明的其它实施方式(在基板的两面设置相对部)的纵剖视图。

图5是表示本发明的其它实施方式(在相对部形成突出部)的纵剖视图。

图6是表示本发明的其它实施方式(在转台上设置相对部)的正视图。

图7是图6的侧视图。