[发明专利]吸收型多层膜ND滤光片及其制造方法

权利要求书

1.一种吸收型多层膜ND滤光片，其在由树脂膜构成的基板的至少一个面上，具有交互层叠氧化物介电体膜层与吸收膜层而形成的吸收型多层膜，其特征在于，

通过波长550nm的消光系数为0.005～0.05的SiCyOx膜构成上述氧化物介电体膜层，该SiCyOx膜通过采用以SiC及Si作为主成分的成膜材料的物理气相生长法成膜，其中，0＜y≤0.1、1.5＜x＜2；并且，通过波长550nm的折射率为1.5～3.0、消光系数为1.5～4.0的金属膜构成上述吸收膜层，该金属膜通过物理气相生长法成膜，同时，吸收型多层膜的最外层由上述氧化物介电体膜层构成，

其中，上述氧化物介电体膜层的各膜厚为3nm～150nm，上述吸收膜层的各膜厚为3nm～20nm。

2.按照权利要求1所述的吸收型多层膜ND滤光片，其特征在于，分光透过特性的平坦性在10％以下，该分光透过特性的平坦性通过用波长400nm～700nm的可见光区域的最大透过率与最小透过率之差除以平均透过率所得到的值定义。

3.按照权利要求1或2所述的吸收型多层膜ND滤光片，其特征在于，与上述吸收型多层膜的基板接触的膜为氧化物介电体膜层。

4.按照权利要求1或2所述的吸收型多层膜ND滤光片，其特征在于，构成上述吸收膜层的金属膜，由Ni单体或Ni类合金构成。

5.按照权利要求4所述的吸收型多层膜ND滤光片，其特征在于，上述Ni类合金为添加1种以上选自Ti、Al、V、W、Ta、Si中的元素的Ni类合金。

6.按照权利要求5所述的吸收型多层膜ND滤光片，其特征在于，各元素的添加比例分别设定为：Ti元素的添加比例为5～15重量％、Al元素的添加比例为3～8重量％、V元素的添加比例为3～9重量％、W元素的添加比例为18～32重量％、Ta元素的添加比例为5～12重量％、Si元素的添加比例为2～6重量％的范围。

7.一种吸收型多层膜ND滤光片的制造方法，其制造氧化物介电体膜层的各膜厚为3nm～150nm、吸收膜层的各膜厚为3nm～20nm的权利要求1中所述的吸收型多层膜ND滤光片，其特征在于，该方法具有：

通过波长550nm的消光系数为0.005～0.05的SiCyOx膜构成氧化物介电体膜层的成膜工序，该SiCyOx膜通过采用以SiC及Si作为主成分的成膜材料并且控制氧气导入量的物理气相生长法成膜，其中，0＜y≤0.1、1.5＜x＜2；

通过波长550nm的折射率为1.5～3.0、消光系数为1.5～4.0的金属膜构成上述吸收膜层的成膜工序，该金属膜通过停止导入氧气的物理气相生长法成膜。

8.按照权利要求7所述的吸收型多层膜ND滤光片的制造方法，其特征在于，与由树脂膜构成的基板接触的膜为氧化物介电体膜层。