[发明专利]用于制备低水分羧酸湿滤饼的方法和设备

权利要求书

1.一种用于分离包含芳族二羧酸的固体颗粒的方法，所述 方法包括：在产品分离区中处理包含液体和所述固体颗粒的浆液 以由此制得母液和包含至少一部分所述固体颗粒的低水分湿滤 饼，其中所述处理包括用初始温度至少约40℃的清洗流清洗至 少一部分所述固体颗粒，其中所述低水分湿滤饼包含少于约 12wt％的液体。

2.权利要求1的方法，其中所述清洗流具有约40-约180 ℃的初始温度。

3.权利要求1的方法，其中所述清洗流具有约50-约160 ℃的初始温度。

4.权利要求1的方法，其中所述清洗的湿滤饼包含少于约 9wt％的液体。

5.权利要求1的方法，其中所述清洗的湿滤饼包含少于约 6wt％的液体。

6.权利要求1的方法，其中所述清洗流与所述固体颗粒的 重量比为约0.2：1-约5：1。

7.权利要求1的方法，其中所述清洗流与所述固体颗粒的 重量比为约0.3：1-约3：1。

8.权利要求1的方法，其中所述清洗流包含乙酸和/或水。

9.权利要求1的方法，所述处理进一步包括：将所述浆液 分离成母液流和包含至少一部分所述固体颗粒的湿滤饼，并且用 所述清洗流清洗至少一部分所述初始的湿滤饼，由此制备清洗的 湿滤饼。

10.权利要求9的方法，其中所述初始的湿滤饼具有约0.25 -约8英寸的厚度。

11.权利要求9的方法，所述处理进一步包括：在所述产品 分离区中使至少一部分所述清洗的湿滤饼与浓缩进料接触以由 此制得清洗并且浓缩的湿滤饼。

12.权利要求11的方法，其中所述浓缩进料具有约20-约 200℃的初始温度。

13.权利要求9的方法，所述处理进一步包括：在所述产品 分离区中使至少一部分所述清洗的湿滤饼与脱水气体接触以由 此制得所述低水分湿滤饼，其中所述脱水气体具有至少约20℃ 的初始温度。

14.权利要求1的方法，其中所述产品分离区包括母液去除 区、清洗区、任选的浓缩区和脱水区。

15.权利要求14的方法，其中所述清洗区包括初始清洗区、 中间清洗区和最终清洗区。

16.权利要求15的方法，其中所述清洗包括逆流清洗。

17.权利要求16的方法，其中所述逆流清洗包括：将所述 清洗进料引入所述最终清洗区由此制得第一洗液，将至少一部分 所述第一洗液引入所述中间清洗区由此制得第二洗液，和将至少 一部分所述第二洗液引入所述初始清洗区。

18.权利要求14的方法，其中所述固体颗粒在所述清洗区 中具有少于约2分钟的平均停留时间。

19.权利要求14的方法，其中所述固体颗粒在所述清洗区 中具有约5秒-约2分钟的平均停留时间。

20.权利要求14的方法，其中所述固体颗粒在所述脱水区 中具有少于约2分钟的平均停留时间。

21.权利要求1的方法，其中当引入所述产品分离区时，所 述浆液具有约40℃-约180℃的初始温度。

22.权利要求1的方法，其中所述产品分离区被限定在旋转 压力圆筒过滤器内。

23.权利要求1的方法，其中所述产品分离区被限定在真空 带式过滤器内。

24.权利要求1的方法，其中所述固体颗粒包含粗制的对苯 二甲酸颗粒。

25.权利要求1的方法，其中所述固体颗粒包含精制的对苯 二甲酸颗粒。