[发明专利]超声波清洗装置有效
申请号: | 200780007505.9 | 申请日: | 2007-09-10 |
公开(公告)号: | CN101395704A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 长谷川浩史;釜村智治 | 申请(专利权)人: | 株式会社华祥 |
主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;B06B1/06;B08B3/12 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周建秋;王凤桐 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超声波 清洗 装置 | ||
1.一种超声波清洗装置,其特征在于,该超声波清洗装置包括:
清洗槽,用于收容被清洗物和清洗液;
多个振动元件,安装在所述清洗槽上;
分别与所述多个振动元件连接的多个振荡器,用于激励所述多个振动元 件并且分别与用于供电的商用电源连接;以及
与所述多个振荡器连接的控制部,用于控制所述多个振荡器以使所述多 个振荡器对所述多个振动元件输出相位相同的信号;
所述多个振荡器用于输出由所述控制部输出的同步脉冲统一定时的相 位相同的信号;
所述控制部不具备需要功率大于同步脉冲信号的振荡器的功能。
2.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述多个振 荡器与所述多个振荡器的工作状态无关地输出由所述控制部输出的同步脉 冲统一定时的相位相同的信号。
3.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述多个振 荡器分别具有频率控制电路,所述频率控制电路生成具有遵循所述控制部对 所述多个振荡器输出的振荡频率值的频率的信号、将所述信号作为由所述控 制部对所述多个振荡器输出的同步脉冲统一定时的相位相同的信号分别输 出到所述多个振动元件。
4.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述控制部 对所述振荡器输出用于开始向所述振动元件输出信号的振荡开始定时脉冲。
5.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,由所述同步 脉冲统一定时后输出的信号的相位是零度并且是相同的。
6.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述振动元 件是压电元件。
7.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述超声波 清洗装置具有间接槽,该间接槽收容用于传播振荡的介质以及至少与所述介 质接触配置的清洗槽,并且该间接槽安装在所述多个振动元件上。
8.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述多个振 荡器分别具有功率放大电路,所述功率放大电路根据所述控制部对所述多个 振荡器输出的功率设定值信号而放大输出到所述多个振动元件的每一个的 输出信号的振幅。
9.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述多个振 荡器用于输出由所述控制部输出的同步脉冲统一定时的相位相同的信号,所 述多个振荡器输出的信号的相位差在-45度到+45度的范围内。
10.根据权利要求1所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述多个振 荡器分别具有信号生成电路,所述信号生成电路所分别生成的信号的相位差 在-5度到+5度的范围内。
11.根据权利要求10所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述信号 生成电路所生成的信号是调频调制波。
12.根据权利要求11所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述调频 调制波在频率最低处与从所述控制部输出的同步脉冲同步。
13.根据权利要求10所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述信号 生成电路所生成的信号是调幅调制波。
14.根据权利要求13所述的超声波清洗装置,其特征在于,所述调幅 调制波在振幅最小处与从所述控制部输出的同步脉冲同步。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造