[发明专利]柔性光导波路及其制造方法以及光模块无效
| 申请号： | 200780007841.3 | 申请日： | 2007-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN101395511A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 柴田智章;高桥敦之;增田宏;高崎俊彦;牧野龙也;落合雅美 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 钟 晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 柔性 导波 及其 制造 方法 以及 模块 | ||
1.一种柔性光导波路，其为在下包覆层、芯层和上包覆层中的至少一方使用光导波路形成用树脂膜来制作的柔性光导波路，其中，下包覆层和上包覆层中的至少一方的外侧表面的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm～10μm。
2.一种柔性光导波路，其为在下包覆层、芯层和上包覆层中的至少一方使用光导波路形成用树脂膜来制作的柔性光导波路，其中，下包覆层和上包覆层中的任选一方的外侧表面的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm～10μm，并且另一方的外侧表面的十点平均粗糙度(Rz)为小于0.5μm。
3.一种柔性光导波路的制造方法，其为含有下包覆层和芯图案和上包覆层的柔性光导波路的制造方法，包含：在下包覆层和上包覆层的至少一方，使用在表面的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm～10μm的基材上制作的包覆层形成用树脂膜来制作光导波路的工序，以使得下包覆层和上包覆层中的至少一方的外侧的表面的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm～10μm；以及在其后从该包覆层形成用树脂膜除去该基材的工序。
4.根据权利要求3所述的柔性光导波路的制造方法，其中，表面的十点平均粗糙度(Rz)为0.5μm～10μm的基材是金属箔。
5.一种光模块，其为使用权利要求2所述的柔性光导波路来制作的光模块，其中，在外侧表面的十点平均粗糙度(Rz)小于0.5μm的下包覆层和上包覆层中的任选一方的外侧表面搭载了发光元件或受光元件。
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