[发明专利]曝光装置无效

专利信息
申请号: 200780010788.2 申请日: 2007-05-28
公开(公告)号: CN101410761A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: 佐藤俊德;佐治伸仁;中村刚 申请(专利权)人: 日本精工株式会社
主分类号: G03F7/22 分类号: G03F7/22
代理公司: 北京泛诚知识产权代理有限公司 代理人: 杨本良;文 琦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种用于曝光装置且支承工件基板的支承装置。

背景技术

用于薄型电视等的液晶等的平板显示器,近年来有逐渐大型化的趋势,与此同时,用于对工件基板进行图案曝光的掩模也有大型化的趋势,因此导致的成本上升及使用的难度也成了问题。与之相对,要尝试将小面积的小掩模分割成多片,加以排列作为整体曝光大的图案而不用一片大的掩模(参照专利文献1)。根据专利文献1的技术,在两头部分光源、掩模和工件基板同步地相对移动,在中间部分光源和掩模停止不动。

专利文献1:(日本)特开平11-237744号公报

但是,在这种曝光装置中,为使工件基板沿扫描方向移动而设置空气浮起装置。空气浮起装置从支承面朝向工件基板喷出的空气压力支承工件基板浮起,由于与支承面几乎无摩擦,故可顺畅地扫描工件基板。但是,通常为了回收从支承面喷出的空气,必须在支承面设置排气槽,但透过了工件基板的光因该排气槽反射而复制到工件基板上,其结果可能产生不能均匀地曝光的不良情况。根据本发明人的研究,断定特别是在排气槽与扫描方向平行的情况下,在工件基板上发生由条纹状返回光造成的不能忽视的曝光不均。

发明内容

本发明是鉴于这样的现有技术的问题点而发明的,其目的在于提供一种用于曝光装置且能够抑制工件基板曝光不良的支承装置。

本发明的上述目的通过下述结构实现。

(1)一种支承装置,该支承装置相对于支承面,通过流体支承沿规定方向扫描且曝光的工件基板,其特征在于:

在所述支承面上设有朝向所述工件基板喷出流体的喷出部和回收自所述喷出部喷出的流体的回收部,所述回收部含有与所述工件基板的扫描方向非平行地延伸的排气槽。

(2)如上述(1)所述的支承装置,其特征在于所述排气槽为直线状。

(3)如上述(1)所述的支承装置,其特征在于所述排气槽为曲线状。

根据本发明的支承装置,在所述支承面上设有朝向所述工件基板喷出流体的喷出部和回收自所述喷出部喷出的流体的回收部,所述回收部包含与所述工件基板的扫描方向非平行地延伸的排气槽,因此,在工件基板上产生条纹状返回光造成的曝光不均被抑制,可进行适宜的曝光。“流体”是指优选可以以低成本取得使用容易的空气,但不限于此。

附图说明

图1是表示包含第一实施方式支承装置的曝光装置的一部分剖面图;

图2是沿箭头II方向看到的图1的结构图;

图3是本实施方式支承装置40的俯视图;

图4是沿箭头IV方向看到的图3的支承装置40的图;

图5是沿箭头V方向看到的图3的支承装置40的图;

图6是说明第一实施方式曝光装置的另一曝光动作图;

图7是第二实施方式支承装置40’的俯视图;

图8是沿箭头VII方向看到的图7的支承装置40’的图;

图9是与支承装置40’的图2相同的俯视图;

图10是与支承装置40’的变形例的图2相同的俯视图。

符号说明

1A工件基板

10A光掩模

20平行光束

30光学系

31保护罩

32反射镜

40、40’支承装置

41基台

41a供给管路

41b喷出管路

42、42’支承板

42a支承面

42b、42b’排气槽

42c吸引孔

B螺栓

OPU光源组件

具体实施方式

下面,参照附图对本发明的最佳实施方式进行说明。图1是表示包含第一实施方式支承装置的曝光装置的局部剖面图。图2是沿箭头II方向看到的图1的结构图。

图1中,曝光装置具有光源组件OPU、光学系30、掩模10A、工件基板1A的支承部40。光源组件OPU固定于未图示的构架,具备反射镜32的光学系30在光掩模10A上方可沿图中左右方向移动。另一方面,工件基板1A,如图2所示,通过三个并行配置的支承装置40被空气浮起,并通过未图示的驱动装置的驱动,可有沿着作为扫描方向的图1的左右方向(图2中从左向右的方向)移动。

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