[发明专利]微影投射设备、气体洗涤方法、装置制造方法及洗涤气体的供应系统

说明书

本申请案主张2006年4月3日提出申请的美国专利申请案第11/396,823号的利益，且为此美国申请案的连续案；本申请案主张2003年7月21日提出申请的美国专利申请案第10/623,180号的利益，且为此美国申请案的部分连续申请案；且本申请案主张2004年7月21日提出申请的国际专利申请案第PCT/US2004/023490号的利益，且为该国际申请案的部分连续申请案；且本申请案主张2004年7月21日提出申请的美国专利申请案第10/565,486号的利益，且为该美国申请案的部分连续申请案；这些申请案的内容整体以参考的方式加入本文之中。

背景技术

出现在一种微影投射设备的组件的表面于使用期间会逐渐受到污染，即使该设备大部分是在真空下操作也是如此。特别是，在微影投射设备中例如反射镜的光学元件的污染对于该设备的操作方面会有不利的影响，因为此种污染影响到光学元件的光学特性。

微影投射设备的光学元件污染已知会藉由用一种超高纯度的气体洗涤微影投射设备的空间而降低，此种光学元件位在该空间中，该超高纯度的气体被称为洗涤气体。该洗涤气体防止表面的污染，例如，受到碳氢化合物的分子污染。

这种方法的其中一项缺点是：洗涤气体对用于微影制程的化学活性方面会有不利的影响。因此，需要一种修改的洗涤气体，其能够降低在微影投射系统中光学元件的污染，但是却不会对用于微影制程的化学活性方面有不利的影响。

发明内容

本发明含有一个微影投射设备，其可以包括：一个照明器与一个支撑结构，该照明器被建构来提供一道辐射束，而该支撑结构则被建构来支撑一个图案成形装置。图案成形装置被建构来依据一个想要的图案使一道投射束形成图案。一个基板平台被建构来握持一个基板。一个投射系统被建构来投射被图案成形过的光束到该基板的目标部分上。至少一个洗涤气体供应系统被建构来将一种洗涤气体提供到至少部分的微影投射设备。该至少一个洗涤气体供应系统具有一个洗涤气体混合物产生器，而该洗涤气体混合物产生器则包括：一个蒸发器，其被建构来将蒸气加入到一种洗涤气体中，以形成一种洗涤气体混合物。在某些变化形式中，该洗涤气体主要由该洗涤气体与一种来自可蒸发液体的蒸气所组成。在某些实施例中，该洗涤气体混合物能够包括：一种洗涤气体与一种来自可蒸发液体的蒸气。该可蒸发液体形成一种在该洗涤气体中未受到污染的蒸气，而该混合物被用来降低或减少在微影投射设备中的光学元件的污染，同时维持在一个基板的上的披覆物的化学活性。一个洗涤气体混合物出口被连接到洗涤气体混合物产生器，并且能够被建构来将洗涤气体混合物供应到至少部分的微影投射设备。在该洗涤气体混合物产生器中的蒸发器是在高流率下将蒸气加入到洗涤气体中，而不会对该洗涤气体造成超过1ppt(每兆分之一)的污染物。在某些实施例中，在洗涤气体混合物产生器中的蒸发器是在高流率下将蒸气加入到洗涤气体中，而不会对该洗涤气体造成超过1ppb(每十亿分之一)的污染物，1ppb的污染物降低在微影投射系统中光学元件的光学特性。

本发明的一个方面是提供一种改良式微影投射设备，特别是使用某种洗涤气体就能够降低污染物，而不会影响光阻剂显影的一种微影投射设备。

依据本发明的一个方面，一种微影投射设备包括：一个照明器与一个支撑结构，该照明器被建构来提供一道辐射束，而该支撑结构被建构来支撑一个图案成形装置。该图案成形装置被建构以依据一个想要的图案来使一道投射束形成图案。一个基板平台被建构来握持一个基板。一个投射系统被建构来投射被图案成形过的光束到该基板的目标部分的上。至少一个洗涤气体供应系统被建构来将一种洗涤气体提供到至少部分的微影投射设备。该至少一个洗涤气体供应系统具有一个洗涤气体混合物产生器，而该洗涤气体混合物产生器则包括：一个蒸发器，或者该蒸发器被建构来将湿气加入到一种洗涤气体中。该洗涤气体混合物产生器被建构来产生一种洗涤气体混合物。该洗涤气体混合物包括：至少一种洗涤气体与该湿气。一个洗涤气体混合物出口被连接到洗涤气体混合物产生器，并且能够被建构来将该洗涤气体混合物供应到至少部分的微影投射设备。因此，存在着湿气，而化学活性，例如，阻剂的显影，并不会受到洗涤气体混合物的影响。