[发明专利]感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法

权利要求书

1.一种感光性元件，其特征在于，顺次层叠支持体、感光层、保护膜而 成，所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及选 自由下述通式(1)、(2)和(3)所示化合物组成的组中的至少一种的增感剂 的感光性树脂组合物形成，

相对于所述粘合剂聚合物和所述光聚合性化合物的总量100质量份，所述 粘合剂聚合物的配合量为40～80质量份，所述光聚合性化合物的配合量为 20～60质量份，所述光聚合引发剂的配合量为0.5～20质量份，所述增感剂的配 合量为0.01～5质量份，

所述保护膜以聚丙烯为主要成分，所述保护膜中的直径在80μm以上的鱼 眼的存在密度为5个/m²以下，所述保护膜的厚度为5～50μm，

该感光性元件用于曝光于在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光而形 成抗蚀图案，

式(1)中，R各自独立地表示碳原子数4～12的烷基；a、b和c各自独立 地表示0～2的整数，并且a、b和c的总和为1～6；

式(2)中，R¹和R²各自独立地表示甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己 基；R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、 丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧 基羰基、羟基乙氧基羰基或苯氧基；

式(3)表示的化合物表示选自7-氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-甲基 香豆素、7-二甲氨基-4-三氟甲基香豆素、7-甲氨基-4-甲基香豆素、7-二乙氨基 -4-甲基香豆素、7-乙氨基-4-甲基香豆素、4，6-二甲基-7-乙氨基香豆素、4，6-二 甲基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二甲氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二乙氨 基香豆素、4，6-二乙基-7-二甲氨基香豆素、7-二甲氨基环五[c]香豆素、7-氨基 环五[c]香豆素、7-二乙氨基环五[c]香豆素、2，3，6，7，10，11-六酐-1H，5H-环五 [3，4][1]苯并吡喃[6，7，8-ij]喹嗪12(9H)-酮、7-二乙氨基-5’，7’-二甲氧基-3，3’- 羰基双香豆素、3，3’-羰基双[7-(二乙氨基)香豆素]和7-二乙氨基-3-噻吩并氧 基香豆素中的至少一种化合物。

2.根据权利要求1所述的感光性元件，其中，所述R分别独立地为从正 丁基、叔丁基、叔辛基和十二烷基所组成的组中选出的基团。

3.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述通式(1)所示的 化合物为1-苯基-3-(4-叔丁基苯乙烯基)-5-(4-叔丁基苯基)吡唑啉。

4.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述R¹和R²各自独立 地为碳原子数1～4的烷基，所述R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰为氢原子。

5.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述通式(2)所示的 化合物为9，10-二丁氧基蒽。

6.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述通式(3)所示的 化合物为7-二乙氨基-4-甲基香豆素。

7.根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述光聚合引发剂为 2，4，5-三芳基咪唑二聚物。

8.一种抗蚀图案的形成方法，其特征在于，具备：边从感光层上剥离权 利要求1～7中的任一项所述的感光性元件的保护膜，边将所述感光层层叠在电 路形成用基板上的层叠工序；对于被层叠的所述感光层的规定部分照射活性光 线的曝光工序；对所述照射活性光线后的所述感光层进行显影来形成抗蚀图案 的显影工序。

9.一种印刷电路板的制造方法，其特征在于，具备：边从感光层上剥离 权利要求1～7中的任一项所述的感光性元件的保护膜，边将所述感光层层叠在 电路形成用基板上的层叠工序；对于被层叠的所述感光层的规定部分照射活性 光线的曝光工序；对所述照射活性光线后的所述感光层进行显影来形成抗蚀图 案的显影工序；对所述形成有抗蚀图案的所述电路形成用基板进行蚀刻或镀覆 来形成导体图案的导体图案形成工序。