[发明专利]摄像装置

权利要求书

1.一种摄像装置，其利用摄像光学系统在摄像面上形成被摄体像， 在所述摄像面上二维排列着多个像素，并且配置有在各像素处进行光电 变换的受光元件，该摄像装置的特征在于，

所述摄像光学系统具有经过在光学面上形成周期性的条纹的制造工 序而制造成的成形光学元件，

当对所述摄像光学系统入射亮度值超过所述受光元件的饱和感光度 的高亮度的被摄体光时，在所述摄像面上的使所述光学面不具有所述条 纹时所述高亮度的被摄体光所形成的被摄体像的区域内，形成基于所述 高亮度的被摄体光的由所述光学面的所述条纹引起的无用光像。

2.根据权利要求1所述的摄像装置，其特征在于，

该摄像装置通过对用于决定从具有所述条纹的光学面到所述摄像面 之间所包含的光学系统的聚光发散特性的光学参数中的至少一个参数、 或所述条纹的周期进行校正，来使所述无用光像收敛在使所述光学面不 具有所述条纹时所述高亮度的被摄体光所形成的被摄体像的区域内。

3.根据权利要求1或2所述的摄像装置，其特征在于，

在设所述被摄体像的光强度峰值位置与所述无用光像的光强度峰值 位置之间的距离为Δt、所述被摄体像的光强度峰值位置与所述被摄体像 的强度超过受光元件的饱和感光度的区域的边界之间的距离为P时，以 满足P＞Δt的关系的方式来形成所述无用光像。

4.根据权利要求1或2所述的摄像装置，其特征在于，

在设所述无用光像的光强度峰值位置处的所述被摄体像的光强度为 I1、所述无用光像的光强度为I2时，以满足I1＞I2的关系的方式来形成 所述无用光像。

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的摄像装置，其特征在于，

该摄像装置针对经过所述摄像光学系统到达所述摄像面的最长波 长，决定所述无用光像在所述摄像面上的形成位置。

6.根据权利要求1或2所述的摄像装置，其特征在于，

在设经过所述摄像光学系统到达所述摄像面的最长波长为λ、所述被 摄体像的区域的最大外径为Q、具有所述条纹的光学面的摄像面侧折射 率为n、具有所述条纹的光学面的周期性的条纹的周期为d、从具有所述 条纹的光学面到所述摄像面之间所包含的光学系统的焦距为f、前侧焦点 位置为fF、后侧焦点位置为fB、从具有所述条纹的光学面到摄像面侧的 下一个光学面之间的间隔为SF、从具有所述条纹的光学面到所述摄像面 之间所包含的光学系统的最终面到所述摄像面的间隔为SB时，满足以下 关系式(1)：

Q＞{f+(SB-fB)(SF-fF)/f}×sin^-1(λ/nd)

                                  …(1)

7.一种摄像装置，其利用摄像光学系统在摄像面上形成被摄体像， 在所述摄像面上二维排列着多个像素，并且配置有在各像素处进行光电 变换的受光元件，该摄像装置的特征在于，

所述摄像光学系统具有经过在光学面上形成周期性的条纹的制造工 序而制造成的成形光学元件，

在所述摄像面上的与用于取得与被摄体像有关的摄像信息的第1摄 像区域不同的第2摄像区域中，形成基于高亮度的被摄体光的由所述光 学面的所述条纹引起的无用光像，所述高亮度的被摄体光的亮度值超过 所述受光元件的饱和感光度。

8.根据权利要求7所述的摄像装置，其特征在于，

该摄像装置通过对用于决定从具有所述条纹的光学面到所述摄像面 之间所包含的光学系统的聚光发散特性的光学参数中的至少一个参数、 或所述条纹的周期进行校正，来使所述无用光像收敛在所述第2摄像区 域中。

9.根据权利要求7或8所述的摄像装置，其特征在于，

在所述第2摄像区域内相对于具有所述条纹的光学面中的无用光位 置处于没有越过光轴的位置上形成由相对于具有所述条纹的光学面的入 射角度最大的光线形成的所述无用光像。