[发明专利]覆铜层合板的制法、保护层的制法及柔性印刷基板的制法无效
申请号: | 200780016062.X | 申请日: | 2007-05-14 |
公开(公告)号: | CN101437675A | 公开(公告)日: | 2009-05-20 |
发明(设计)人: | 西村真也;上田充;小仓知士 | 申请(专利权)人: | 株式会社藤仓;国立大学法人东京工业大学 |
主分类号: | B32B15/00 | 分类号: | B32B15/00;C08G73/10 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 蒋 亭;苗 堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 覆铜层 合板 制法 保护层 柔性 印刷 | ||
1.一种覆铜层合板的制造方法,将铜箔层合于聚酰亚胺层上而得到覆铜层合板,其中,所述聚酰亚胺层是使聚酰胺酸进行酰亚胺化反应而制造的,所述聚酰胺酸是使芳香族二酸酐或脂环式二酸酐、脂肪族二胺或脂环式二胺以及pKa为3~5的酸反应而得到的。
2.根据权利要求1所述的覆铜层合板的制造方法,其中,所述聚酰胺酸是使脂肪族二胺或脂环式二胺与pKa为3~5的酸作用后,使芳香族二酸酐或脂环式二酸酐与其反应而得到的。
3.根据权利要求1所述的覆铜层合板的制造方法,其中,所述pKa为3~5的酸是低分子量的酸。
4.根据权利要求1所述的覆铜层合板的制造方法,其中,所述pKa为3~5的酸是有机酸。
5.一种保护层的制造方法,将粘合剂层层合于聚酰亚胺层上而得到保护层,其中,所述聚酰亚胺层是使聚酰胺酸进行酰亚胺化反应而制造的,所述聚酰胺酸是使芳香族二酸酐或脂环式二酸酐、脂肪族二胺或脂环式二胺以及pKa为3~5的酸反应而得到的。
6.根据权利要求5所述的保护层的制造方法,其中,所述聚酰胺酸是使脂肪族二胺或脂环式二胺与pKa为3~5的酸作用后,使芳香族二酸酐或脂环式二酸酐与其反应而得到的。
7.根据权利要求5或6所述的保护层的制造方法,其中,所述pKa为3~5的酸是低分子量的酸。
8.根据权利要求5所述的保护层的制造方法,其中,所述pKa为3~5的酸是有机酸。
9.一种柔性印刷基板的制造方法,在通过权利要求1所述的制造方法而得到的覆铜层合板的铜箔上形成电路图案,然后在该覆铜层合板上介由其粘合剂层贴合通过权利要求5所述的制造方法而得到的保护层,制造柔性印刷基板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社藤仓;国立大学法人东京工业大学,未经株式会社藤仓;国立大学法人东京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780016062.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。