[发明专利]感光性树脂组合物以及层压体有效
申请号: | 200780018579.2 | 申请日: | 2007-07-27 |
公开(公告)号: | CN101449208A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 筒井大和 | 申请(专利权)人: | 旭化成电子材料元件株式会社 |
主分类号: | G03F7/033 | 分类号: | G03F7/033;G03F7/004;G03F7/027;H05K3/00;H05K3/06 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 以及 层压 | ||
1.一种感光性树脂组合物,其特征在于,所述感光性树脂 组合物含有:20~90质量%(a)含羧基粘合剂、5~75质量% (b)具有至少一个末端烯属不饱和基团的加成聚合性单体、 0.01~30质量%(c)光聚合引发剂、0.01~10质量%(d)隐色 染料,其中,
(a)含羧基粘合剂的重均分子量为5000~500000,含有至 少将10~40质量%下述通式(I)所示的单体、10~80质量%下 述通式(II)所示的单体以及10~80质量%下述通式(III)所 示的单体共聚而成的共聚物,并且,
作为(b)具有至少一个末端烯属不饱和基团的加成聚合性 单体,含有选自下述通式(IV)、(V)和(VI)所示的组中的 至少1种化合物,
[化学式1]
[化学式2]
[化学式3]
R1、R2和R3为氢原子或甲基,这些可以相同也可以不同, R4和R5各自独立地表示氢原子、卤素原子、羟基、碳数1~12 的烷基、碳数1~12的烷氧基、羧基或卤代烷基;
[化学式4]
R6和R7为氢原子或甲基,这些可以相同也可以不同,此外, l为3~15的整数;
[化学式5]
式中,R8、R9和R10为氢原子或甲基,这些可以相同也可以 不同,此外n 1+n2+n3为1~20的整数;
[化学式6]
式中,R11、R12、R13和R14为氢原子或甲基,这些可以相同 也可以不同,此外,m1+m2+m3+m4为1~20的整数。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于, 作为(c)光聚合性引发剂,含有0.01~30质量%下述通式(VII) 所示的吖啶化合物,
[化学式7]
式中,R15为氢、烷基、芳基、吡啶基或烷氧基。
3.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其特征在 于,进一步含有0.01~30质量%(e)N-芳基-α-氨基酸化合 物。
4.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物,其特征在 于,进一步含有0.01~3质量%(f)卤素化合物。
5.根据权利要求3所述的感光性树脂组合物,其特征在于, 进一步含有0.01~3质量%(f)卤素化合物。
6.一种感光性树脂层压体,其通过将权利要求1~5任一项 所述的感光性树脂组合物层压到支撑体上而形成。
7.一种抗蚀图案形成方法,其包括使用权利要求6所述的 感光性树脂层压体在基板上形成感光性树脂层的层压工序、曝 光工序和显影工序。
8.根据权利要求7所述的抗蚀图案形成方法,其特征在于, 在前述曝光工序中,通过直接绘制进行曝光。
9.一种印刷线路板的制造方法,其包括对通过权利要求7 或8所述的方法形成了抗蚀图案的基板进行蚀刻或镀敷的工序。
10.一种引线框的制造方法,其包括对通过权利要求7或8 所述的方法形成了抗蚀图案的基板进行蚀刻的工序。
11.一种半导体封装体的制造方法,其包括对通过权利要 求7或8所述的方法形成了抗蚀图案的基板进行镀敷的工序。
12.一种凸块的制造方法,其包括对通过权利要求7或8所 述的方法形成了抗蚀图案的基板进行镀敷的工序。
13.一种具有凹凸图案的基材的制造方法,其包括通过喷 砂对通过权利要求7或8所述的方法形成了抗蚀图案的基板进行 加工的工序。
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