[发明专利]用于使含噻吩化合物的烃进料中的芳烃加氢的方法无效

专利信息
申请号: 200780018605.1 申请日: 2007-04-19
公开(公告)号: CN101448919A 公开(公告)日: 2009-06-03
发明(设计)人: P·B·伊梅尔法;M·C·宗尼维涅勒 申请(专利权)人: 国际壳牌研究有限公司
主分类号: C10G45/48 分类号: C10G45/48;B01J8/02;B01J8/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王长青
地址: 荷兰*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 噻吩 化合物 进料 中的 芳烃 加氢 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及用于还含有一定浓度硫化合物的烃进料中的芳烃加氢的方法。

背景技术

含镍催化剂广泛用于多种不同烃进料中可能含有的芳烃化合物的加氢。已知这些镍基催化剂对正被处理以去除芳烃的进料中通常含有的硫杂质敏感。美国专利公布No.US2004/0030208公开了使用镍基催化剂使烃进料中含有的芳烃加氢的方法。这篇文献进一步提出了用于延长镍基催化剂的催化寿命的改进方法,该方法通过将加氢反应器从启动运行开始在高温下操作以将在其烃进料中的噻吩化合物转化,从而促进镍基催化剂的本体硫化,因此延长该催化剂的寿命。

虽然US2004/0030208教导了当处理含芳烃和噻吩化合物的烃进料时,可通过将加氢反应器从启动运行开始在高温下操作通过镍基催化剂的本体硫化来改进镍基催化剂的寿命,但是因为在较高反应温度下发生的不希望的反应例如裂化反应而使得本体硫化的最大温度可能受到限制。也已经发现在镍基催化剂床层的本体硫化中,烃进料通过床层时可能会分布不均和产生沟流,从而引起催化剂床层中不均匀的温度分布。这种不均匀的流体流动通过催化剂床层可能是在其本体硫化期间在催化剂床层产生不希望的热点的原因,导致收率降低和本体硫化效果率下降,因此,催化剂寿命延长与不发生以上情况可达到的寿命延长相比降低。

因此,期望提供一种使烃进料更均匀流动通过镍基催化剂床层的方法,以在镍基催化剂的本体硫化期间在整个床层中获得更均匀的温度分布。

发明内容

因此,本发明提供一种使还含有噻吩化合物的烃进料中的芳烃加氢的方法,其中所述方法包括:在启动运行时和在适用于促进活化后的镍基催化剂本体硫化的过程条件下,使所述烃进料流过流体分布装置以将流体分布于所述活化后的镍基催化剂床层的顶部表面区域上。

本发明的另一个实施方案包括一种使还含有噻吩化合物的烃进料中的芳烃加氢的方法,其中所述方法包括:在启动运行时,在有效促进新鲜镍基催化剂床层本体硫化和未超出最大所需温度的本体硫化温度下,使高度分散的烃进料通过所述新鲜镍基催化剂床层。

在本发明的另一个实施方案中,提供一种使具有进料硫浓度和进料芳烃浓度的烃进料中含有的芳烃加氢的方法,其中所述方法包括:在启动运行时在升高的启动运行温度下将所述烃进料加入容器中,以促进所述镍基催化剂的本体硫化从而提升其耐硫性,其中所述容器含有活化后的镍基催化剂床层和所述床层具有顶部表面区域;在所述容器中分散所述烃进料从而提供分散后的烃进料以在将所述分散后的烃进料与所述床层的所述活化后的镍基催化剂接触之前,在所述顶部表面区域上分布所述烃进料;在不超出最大所需温度的本体硫化温度下使所述分散后的烃进料通过活化后的镍基催化剂的所述床层;和从所述容器采出产品硫浓度小于所述进料硫浓度和产品芳烃浓度小于所述进料芳烃浓度的产品物流。

在本发明的另一个实施方案中,包括一种芳烃加氢方法,所述方法包括:提供包括容器的反应器系统,其中所述容器具有一定长度和装配有用于接收烃进料进入所述容器中的入口装置以及用于从所述容器采出产品的出口装置,其中所述容器中含有具有第一深度和第一顶部表面区域的第一镍基催化剂的第一床层,和其中在所述容器中的所述入口装置和所述第一顶部表面区域之间操作性放置用于将所述烃进料在所述第一床层的所述第一顶部表面区域上分散分布的第一流体分布塔板装置;在启动运行时在升高的启动运行温度下将所述烃进料通过所述入口装置加入所述容器中以促进所述第一镍基催化剂本体硫化和从而提升所述第一镍基催化剂的耐硫性,其中所述烃进料具有进料硫浓度和进料芳烃浓度;和产生具有低于所述进料硫浓度的产品硫浓度和低于所述进料芳烃浓度的产品芳烃浓度的产品。

附图说明

图1是描述在本发明方法的一个实施方案中使用的反应器系统的示意图,所述反应器系统装配有用于将烃进料在镍基催化剂床层的顶部表面上分散分布的流体分布装置。

图2是描述在本发明方法的一个实施方案中使用的含有多个催化剂床层的反应器系统的示意图,每个催化剂床层包括用于将烃进料在每个催化剂床层的顶部表面上分散分布的流体分布装置。

图3是描述本发明方法的一个实施方案的示意图,该实施方案包括含有多个催化剂床层的反应系统,其中每个催化剂床层包括流体分布装置;和另外提供在反应器系统中的多个位置对催化剂床层进行急冷。

具体实施方式

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