[发明专利]粒状二氧化硅

权利要求书

1.一种制备具有球形和单峰粒度分布的粒状二氧化硅颗粒的方法，其特征在于，在搅拌下将二氧化硅颗粒分散在酸性pH水中，然后加入液体烷氧基硅烷，将所获得的分散体在强烈搅拌下转入装有有机溶剂的容器中，然后通过加入有机碱氨衍生物将pH升高至8-13，将获得的凝胶状颗粒用大量的水或水/丙酮溶液洗涤，然后过滤所述颗粒，接着在高温下煅烧至少1小时以从无机氧化物颗粒中除去痕量溶剂；

其中，二氧化硅颗粒的水溶液的初始pH的范围为1至4；所述有机溶剂是非极性有机溶剂并且其介电常数在20℃下小于60；且所述有机碱氨衍生物是环己基氨、t-烷基氨。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述二氧化硅为热解二氧化硅。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述液体烷氧基硅烷是四甲氧基硅烷和/或四乙氧基硅烷。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述水溶液包含作为最终颗粒的掺杂剂的可溶性盐。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述非极性有机溶剂是选自己烷、庚烷、辛烷或壬烷的液体烷烃；硅油；和选自丙醇、丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、壬醇或癸醇的醇；和选自甲苯、苯、硝基苯、氯苯、二氯苯、喹啉或萘烷的芳族化合物；和/或它们的混合物。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，加入所述有机碱氨衍生物后的pH在8至12的范围。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，加入所述有机碱氨衍生物后的pH在10至12的范围。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述煅烧温度在300和800℃之间。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述煅烧温度在300和600℃之间。

10.一种制备具有球形和单峰粒度分布的粒状天然石英颗粒的方法，其特征在于，在搅拌下向酸性pH水中加入液体烷氧基硅烷，然后在强烈搅拌下向溶液中加入天然石英粉末；将所获得的分散体在强烈搅拌下转入装有有机溶剂的容器中，然后通过加入有机碱氨衍生物将pH升高至8-13，将获得的凝胶状颗粒用大量的水或水/丙酮溶液洗涤，然后过滤所述颗粒，接着在高温下煅烧至少1小时，以从无机氧化物颗粒中除去痕量溶剂；

其中，二氧化硅颗粒的水溶液的初始pH的范围为1至4；所述有机溶剂是非极性有机溶剂并且其介电常数在20℃下小于60；且所述有机碱氨衍生物是环己基氨、t-烷基氨。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述液体烷氧基硅烷是四甲氧基硅烷和/或四乙氧基硅烷。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述水溶液包含作为最终颗粒的掺杂剂的可溶性盐。

13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述非极性有机溶剂是选自己烷、庚烷、辛烷或壬烷的液体烷烃；硅油；和选自丙醇、丁醇、戊醇、己醇、庚醇、辛醇、壬醇或癸醇的醇；和选自甲苯、苯、硝基苯、氯苯、二氯苯、喹啉或萘烷的芳族化合物；和/或它们的混合物。

14.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，加入所述有机碱氨衍生物后的pH在8至12的范围。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，加入所述有机碱氨衍生物后的pH在10至12的范围。

16.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述煅烧温度在300和800℃之间。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述煅烧温度在300和600℃之间。