[发明专利]有机金属化合物的供给装置

说明书

技术领域

本发明涉及通过使载气在填充有室温下为固态的有机金属化合物的容器中流动，以将有机金属化合物连同载气一起供给的装置。

背景技术

在化合物半导体器件的制造中，通常使用MOCVD方法(金属有机化学气相沉积方法)。在这种方法中，重要的是使室温下为固态的有机金属化合物稳定地气化以及供应该气化的有机金属化合物。

过去，作为用于使在室温下为固态的有机金属化合物气化并且供应该气化的有机金属化合物的供给装置，已知的是在专利文件1中公开的供给装置。在专利文件1中公开的供给装置具有被填充有机金属化合物的容器、从容器的上部插入到容器中用于引入载气的管，以及被安置在管的下部的分散器。容器的上部配备有用于有机化合物气体和载气的出口，而容器的下部配置有与上部相比内径被降低的减小直径部分。

然而，因为容器的内部填充有在室温为固态的有机金属化合物，因此仍然存在容器中的有机金属化合物和载气相互不完全接触的，并且形成让载气通过的流动通道这样的问题。因此，在容器中未被载气输送的残留有机金属化合物的比例高。因此，还没有研制出长时间地稳定供给有机金属化合物的令人满意的装置。

专利文件1：日本审查专利出版物H05-10320

发明内容

本发明的一个目的是提供一种在工业上适合的用于供给有机金属化合物的装置，所述装置能够长时间地稳定供给在室温为固态的有机金属化合物。

本发明的目的可以通过一种用于供给有机金属化合物的装置来解决，所述装置具有填充有在室温为固态的有机金属化合物的第一柱状容器和第二柱状容器，以及用于将第一和第二容器的内部在下端相互连接的连接构件，其中第一容器的上部装备有载气入口，而第二容器的上部装备有含有有机金属化合物的载气的出口。

入口可以配备有气体进料管，所述气体进料管被安装在第一容器上，以使引入到第一容器中的载气可以碰撞第一容器的上壁表面。在这种情况下，气体进料管的尖端优选在第一容器的内部指向朝上。

备选地，入口可以配备有用于分散被引入到第一容器中的载气的分散器。在这种情况下，分散器可以具有通过使载气与其碰撞而将被引入到第一容器中的载气分散的挡板、被安置在第一容器内部的多孔管、或者被安置在第一容器内部的过滤器。

在本发明的用于供给有机金属化合物的装置中，优选将第一容器和第二容器设置成它们相互隔开。此外，连接构件可以具有用于连接第一容器和第二容器的连通管。在这种情况下，连通管可以由单根直管或多根直管组成。

根据本发明，可以提供一种在工业上适合的用于供给有机金属化合物的装置，所述装置能够长时间地稳定供给在室温为固态的有机金属化合物。

附图说明

图1是根据本发明的第一实施方案的用于供给有机金属化合物的装置的示意性横截面图。

图2是图1所示供给装置的一个变型实例的示意性横截面图。

图3是图1所示供给装置的另一个变型实例的示意性横截面图。

图4是根据本发明的第二实施方案的用于供给有机金属化合物的装置的示意性横截面图。

图5是根据本发明的第三实施方案的用于供给有机金属化合物的装置的示意性横截面图。

图6是图5所示供给装置的一个变型实例的示意性横截面图。

图7是图5所示供给装置的另一个变型实例的示意性横截面图。

图8是图5所示供给装置的另一个变型实例的示意性横截面图。

图9是示出根据本发明的供给装置的一个具体实例的外形的正视图。

图10是图9所示供给装置的后视图。

图11是图9所示供给装置的右视图。

图12是图9所示供给装置的左视图。

图13是图9所示供给装置的平面图。

图14是图9所示供给装置的仰视图。

图15是显示实施例1-1的试验结果的曲线图。

图16是显示实施例1-2的试验结果的曲线图。

图17是在比较例1和2中使用的供给装置的示意性横截面图。

图18是显示比较例1的试验结果的曲线图。

图19是显示实施例2-1的试验结果的曲线图。

图20是显示实施例3-1的试验结果的曲线图。

附图标记的说明

1，1’    容器

2         气体进料管

3         气体排出管

4         填充口

5         连通管

6         分散器

具体实施方式

(第一实施方案)