[发明专利]使用厚层转移工艺制造太阳能电池的方法和结构有效
申请号: | 200780022933.9 | 申请日: | 2007-09-10 |
公开(公告)号: | CN101473446A | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 弗兰乔斯·J·亨利 | 申请(专利权)人: | 硅源公司 |
主分类号: | H01L31/00 | 分类号: | H01L31/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余 刚;吴孟秋 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 转移 工艺 制造 太阳能电池 方法 结构 | ||
相关申请的交叉参考
本非临时申请要求于2006年9月8日提交的第60/825,095号 美国临时专利申请的优先权,并通过引证将其全部内容结合于此。
背景技术
根据本发明的实施例大体涉及包括使用用于光伏应用的层转 移技术形成太阳能电池结构的方法和结构的技术。但是应该意识 到,本发明具有很宽的应用范围;其还可以应用于其他类型的应用, 例如,集成半导体器件、光子器件、压电器件、平板显示器、微电 子机械系统(“MEMS”)、纳米技术结构、传感器、执行器、集成 电路、生物及生物医学器件等的三维封装。
从最开始,人类就依靠“太阳”来获取几乎所有形式的能量。 这样的能量来自石油、发光物、木头、以及各种形式的热能。仅作 为一个实例,人类已经严重依赖诸如煤和煤气的石油资源来满足人 们的许多需要。不幸的是,这种石油资源已经衰竭并且已经导致了 许多其他问题。已经提出利用太阳能作为替代来在一定程度上减少 我们对石油资源的依赖。仅作为一个实例,可以从通常由硅制成的 “太阳能电池”获得太阳能。
硅太阳能电池当暴露于来自太阳的太阳射线时产生电能。射线 对硅原子有影响并形成迁移至硅本体中的p掺杂区和n掺杂区的电 子和空穴,并且在这些掺杂区之间产生电压差和电流。根据应用, 已经将太阳能电池与聚光(concentrating)元件集成在一起以提高 效率。作为一个实例,使用将射线导向有源光伏材料的一个或多个 部分的聚光元件来累积和集中射线。尽管这样很有效,但是这些太 阳能电池仍然有很多局限性。
仅作为一个实例,太阳能电池依赖于诸如硅的原材料。这种硅 通常使用多晶硅和/或单晶硅材料制成。这些材料通常难以制造。多 晶硅电池通常通过制造多晶硅板来制成。尽管可以有效地制成这些 板,但是它们并不具有高效太阳能电池的最佳性能。单晶硅具有高 等级太阳能电池的适当性能。然而,这种单晶硅昂贵并且也难以高 效且成本节约的方式用于太阳能应用。通常,薄膜太阳能电池由于 使用了较少的硅材料而不是很昂贵,但是相比于由单晶硅衬底制成 的更昂贵的体硅电池,它们的非晶或多晶结构效率较低。通过本说 明书以及以下更具体的描述可以发现这些以及其他的局限性。
从上述可以看出,期望得到用于制造大衬底的节约成本且更高 效的技术。
发明内容
根据本发明的实施例,提供了一种用于制造光伏材料的技术。 更具体地,本发明提供了一种包括用于使用用于光伏应用的层转移 技术制成太阳能电池结构的方法和结构的技术。但应意识到,本发 明具有较宽的应用范围;该技术还可以应用于其他类型的应用,诸 如用于集成半导体器件、光子器件、压电器件、平板显示器、微电 子机械系统(“MEMS”)、纳米技术装置、传感器、执行器、集成 电路、生物及生物医学器件等的三维封装。
在一个具体实施例中,本发明提供了一种用于制造光伏电池 (例如,太阳能电池,太阳能板)的方法。该方法包括:提供半导 体衬底,该衬底包括表面区、解理区、以及位于表面区和解理区之 间且将被去除的第一厚度的材料。该方法包括:将半导体衬底的表 面区耦合至光学透明衬底(例如,玻璃、石英、塑料)的第一表面 区。在一个优选实施例中,光学透明衬底包括第一表面区和第二表 面区。该方法还包括对半导体衬底进行解理以从半导体衬底去除第 一厚度的材料,而同时表面区保持耦合至第一表面区,以形成解理 表面区。例如,在光伏应用中,如果第一厚度的材料具有足够的厚 度,则可以将所转移的第一厚度的材料用作吸收层。根据第一厚度 材料的厚度,第一厚度材料可以足以用于有效的薄膜太阳能电池。 在一些实施例中,第一厚度材料可以厚到足以作为使用传统方法 (诸如切割和切片工艺)制成的厚衬底的具成本效益的替代物。更 薄厚度的材料也可以用作用于随后外延生长工艺的单晶模板。可选 地,该方法包括形成与解理后的表面区叠置的第二厚度的半导体材 料,以形成合成厚度的半导体材料。
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