[发明专利]反射镜的制造装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200780024816.6 申请日: 2007-06-07
公开(公告)号: CN101484830A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: 饭岛正行;小林洋介;平山浩二;桥本雄介;浜田龙二;桃野健;中塚笃 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: G02B5/10 分类号: G02B5/10;C23C14/56;F21S8/10;F21V7/00;F21V17/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 何腾云
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 反射 制造 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种反射镜的制造装置,该反射镜在基体的表面上按规定顺序成膜反射膜、着色膜及保护膜而成,其特征在于,具备:

反射膜成膜用的金属膜形成机构;

着色膜成膜用的色素膜形成机构;

保护膜成膜用的保护膜形成机构;

真空槽,该真空槽在内部形成具有所述金属膜形成机构、所述色素膜形成机构以及所述保护膜形成机构的单一的真空处理室;

筒形的基体架,该基体架在所述真空槽的内部可转动地设置,并且具有能够支承多个所述基体的内周面,同时收容所述金属膜形成机构、所述色素膜形成机构和所述保护膜形成机构。

2.如权利要求1所述的反射镜的制造装置,其特征在于,所述金属膜形成机构是金属蒸发源;

所述色素膜形成机构是色素蒸发源;

所述保护膜形成机构是等离子聚合源。

3.如权利要求1所述的反射镜的制造装置,其特征在于,所述基体架构成为可相对所述真空槽自由拆装。

4.如权利要求1所述的反射镜的制造装置,其特征在于,所述真空槽的内部成为在相对所述真空槽安装所述基体架时密闭的真空处理室,所述基体架设有与设置在所述真空槽的前面部的环状的密封部件紧密接合的盖体,所述基体架通过使所述盖体相对所述真空槽紧密接合而安装在所述真空处理室中。

5.如权利要求1所述的反射镜的制造装置,其特征在于,所述基体架在台车上设置多台。

6.一种反射镜的制造方法,该反射镜在基体的表面上按规定顺序成膜反射膜、着色膜及保护膜而成,其特征在于,在圆筒状的筒形的基体架上支承多个基体,把所述基体架装填到真空槽中,使所述基体架转动,在该状态下,具备:

形成所述反射膜的工序,

形成所述着色膜的工序,和

形成所述保护膜的工序;

在共同的真空处理室内进行所述反射膜的形成工序、所述着色膜的形成工序及所述保护膜的形成工序。

7.如权利要求6所述的反射镜的制造方法,其特征在于,在台车上设置多个所述基体架,在一个基体架安装在所述真空槽中的期间,在另一个基体架中进行未处理基体的投料,支承在所述一个基体架上的基体的成膜完成后,使所述一个基体架从所述真空槽脱离,移动所述台车,将所述另一个基体架安装在所述真空槽中。

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