[发明专利]贴片和贴片制剂无效
申请号: | 200780026597.5 | 申请日: | 2007-07-13 |
公开(公告)号: | CN101489510A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | 播摩润;樱庭怜平 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | A61F13/02 | 分类号: | A61F13/02;A61K9/70 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 郇春艳;樊卫民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制剂 | ||
技术领域
本发明涉及贴片以及在压敏粘合剂层中含有药物的贴片制剂,所 述贴片包括背衬、形成在该背衬一个表面上的压敏粘合剂层、以及层 压在该压敏粘合剂层上的衬垫。
背景技术
近年来,已经开发了各种贴片和贴片制剂。考虑到保护伤口和药 物的持续经皮给药,这些贴片和贴片制剂是非常优良的。在贴片或贴 片制剂中,压敏粘合剂层被层压在由织物或塑料膜形成的背衬上,并 且衬垫被层压在该压敏粘合剂层上。这种衬垫不但保护压敏粘合剂层 暴露的表面,而且当其用于使用柔性背衬的贴片或贴片制剂时,其发 挥出这样的效果:改善如贴片或贴片制剂的自保持性能并增强贴片或 贴片制剂的可操作性。在使用这种贴片或贴片制剂时,使用者从压敏 粘合剂层剥离衬垫,并在压力下将露出的压敏粘合剂层施用于病人的 施用部位。因此,优选衬垫能够容易地从压敏粘合剂层分离。
JP-A-2003-033389(专利文献1)公开了一种贴片材料,其包括厚 度为R并形成在背衬一个表面上的压敏粘合剂层,以及厚度为T并且 被层压在压敏粘合剂层上的衬垫,其中在衬垫中形成凹槽,凹槽宽度 为200μm以下,并且凹槽深度为14T/15以上并小于(T+R)。
图4为上述贴片材料一个实例的截面图。这种贴片材料包括背衬 1,形成在该背衬一个表面上的压敏粘合剂层2,以及层压在该压敏粘 合剂层上的衬垫3。在这种贴片材料中,在衬垫3中形成凹槽4。凹槽 4将衬垫3分成衬垫片3a和衬垫片3b。在使用时,使用者通常沿着凹 槽4折叠贴片材料,然后通过使凹槽4处的衬垫片3a或衬垫片3b的末 端部分升起而分离衬垫3。这样,凹槽4改善了衬垫3的可剥离性,并 因此当使用该贴片材料时增强了可操作性。这种凹槽可通过激光加工、 刀具加工等在衬垫上形成。
然而,在图4的实例中,凹槽4达到压敏粘合剂层2致使压敏粘 合剂层2暴露,因此凹槽需要更多设计以防止压敏粘合剂层2被污染。 激光加工、刀具加工等也可引起压敏粘合剂层的机械损伤,例如压敏 粘合剂层2的局部碎裂。特别地,在激光加工的情况下,有时会在压 敏粘合剂层中产生热损伤。
此外,根据压敏粘合剂层的成分或量,诸如添加剂的压敏粘合剂 层成分可能在贴片材料储存期间从凹槽4流出。在压敏粘合剂层含有 药物等的情况下,可能发生药物的升华和分解。即,有改善压敏粘合 剂层时间稳定性的空间。另外,由于使诸如添加剂的压敏粘合剂成分 在贴片材料储存期间从凹槽4流出(这根据压敏粘合剂层的成分可能 发生),贴片材料有时会粘附到其中包封有贴片材料的包装材料,并 且难以从包装材料取出。因此,仍有空间设计用于解决这类问题的方 式。
此外,在图4的实例中,由于凹槽4到达压敏粘合剂层2,衬垫3 被分成衬垫片3a和衬垫片3b并且在凹槽底部未连接。因此,可设想这 样的情况:贴片材料的自保持性能不足,并且这可能留有改善贴片材 料可操作性的空间。
另一方面,JP-A-2003-033389还公开了其中凹槽4未达到压敏粘 合剂层2的贴片材料,并且图5示出了该贴片材料的截面图。在该实 例中,衬垫被连接在凹槽4的底部,并且凹槽4的深度为14T/15以上 并小于T,其中T为衬垫厚度。在该专利公开文献中,也表明了对用 于衬垫3的材料没有特别限制并且可使用各种材料。
应注意使用诸如贴片材料的方法,使用者通常需要进行以下三步 操作用于分离衬垫3:
(i)切断在凹槽4底部的衬垫3的连接部分,以使该衬垫分成衬 垫片3a和衬垫片3b;
(ii)沿着凹槽4折叠贴片材料;以及
(iii)使凹槽4处的衬垫片3a或衬垫片3b的末端部分升起,从而 使整个衬垫分离。
如上所述,至于图5中示出的实例,在上述公开文献中,没有指 定衬垫3的性质作为用于剥离凹槽底部衬垫的手段,并仅指定了凹槽4 的深度。因此,关于该专利公开文献的这个实例,可设想根据衬垫3 的特性,凹槽底部的衬垫不易切断,使得难以剥离衬垫。事实上,关 于上述(i)中用于切断衬垫3连接部分的操作,该公开文献使用了这样 的表达:衬垫3“破裂”或“撕裂”为衬垫片。因此,应理解在图5的 实例中,操作(i)和(ii)未通过一系列操作完成。
同样,在该公开文献图5的实例中,凹槽4的深度为14T/15以上 并小于T。然而,当将凹槽4的深度控制在如该实例中这样狭窄的范围 时,可能引起工业大规模生产上的新困难。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780026597.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。